高純鋁及鋁合金是目前使用廣泛的導電層薄膜材料之一。和超大規模集成電路芯片的制造對濺射靶材金屬純度的要求相比，太陽(yáng)能電池用鋁靶的金屬純度略低，99.995%（4N5）以上。目前制備薄膜電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等。鋁靶、銅靶用于導電層薄膜，鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜。光伏領(lǐng)域對靶材的使用主要是薄膜電池和HIT光伏電池。其中光伏薄膜電池用靶材主要為方形板狀，純度要求一般在99.99%（4N）以上，僅次于半導體用靶材。HJT量產(chǎn)的關(guān)鍵點(diǎn)在于PECVD。2019年海外應材和梅耶博格的PECVD價(jià)格接近5億元/GW，設備雖然成熟但價(jià)格太高，整線(xiàn)的設備投資達到7-8億元。對比海內外四大設備，海外設備較為成熟，但核心設備價(jià)格較高不具備量產(chǎn)經(jīng)濟性。

隨著(zhù)電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高技術(shù)材料逐漸向薄膜轉移，鍍膜期間隨之發(fā)展迅速，靶材是一種具有高附加值的特種電子材料，源極。陶瓷靶材作為非金屬薄膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎材料，已得到從未有過(guò)的發(fā)展，靶材市場(chǎng)規模日益膨脹。靶材稀土靶材（UVTM）詳細介紹鋱靶材廣泛用于半導體芯片、太陽(yáng)能光伏、平面顯示、特種涂層、微納加工，器件制作，尤特可根據客戶(hù)需求，定制供應高純鋱靶材（3N-3N5）、金屬鋱靶材、Tb靶材、稀土靶材（UVTM）。鈦鋁靶50/50at%,70Ti/30at%,67AL/33at%,產(chǎn)品可選用純度等級2N5-3N-3N5包裝方式：真空密封產(chǎn)品，裝放木箱運輸。有著(zhù)不同而又舉足輕重的作用。什么是高純?yōu)R射靶材？就是利用各種高純單質(zhì)貨品及新型化合物制得的功能薄膜為（簡(jiǎn)單理解就是純度更高）。

在光學(xué)器件領(lǐng)域。WSTS預計，2018年大部分國家半導體規模增速達12.4%。特別是存儲器市場(chǎng)。增速高達61.49%。一方面，存儲芯片需求旺盛，價(jià)格大幅上漲，另一方面，物聯(lián)網(wǎng)、汽車(chē)電子、AI等新應用拉動(dòng)下游需求。半導體材料主要分為晶圓制造材料和封裝材料，料包括硅片（37%）、光刻膠、光刻膠配套試劑、濕電子化學(xué)品、電子氣體、P拋光材料、以及靶材等；、引線(xiàn)框架、樹(shù)脂、鍵合絲、錫球、以及電鍍液等。在芯片制造設備領(lǐng)域，韓國不要說(shuō)與美國，就是與日本和歐洲的企業(yè)相比都相距甚遠。另?yè)n國國國際貿易協(xié)會(huì )（KITA）的數據，2019年韓國****芯片制造設備排名前三的國家分別是日本、美國和荷蘭。這意味著(zhù)，韓國在芯片制造設備領(lǐng)域與美國起碼的博弈能力都不具備。

靶材的純度直接影響到靶材的品質(zhì)，靶材產(chǎn)品的品質(zhì)直接影響企業(yè)終端產(chǎn)品的性能和質(zhì)量，因此企業(yè)對靶材的品質(zhì)要求越來(lái)越高，企業(yè)對靶材的純度要求已達到99.9%(3~)、99.99%(4~)、99.999(5~)%甚至更高。在當今及以后的半導體制造流程當中，濺射靶材無(wú)疑是重中之重的原材料，其質(zhì)量和純度對半導體產(chǎn)業(yè)鏈的后續生產(chǎn)質(zhì)量起著(zhù)關(guān)鍵性作用。靶材，特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的物相沉積（PhysicalVaporDeition，PVD）工藝，是制備晶圓、面板、太陽(yáng)能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。“2019年度中國濺射靶材品牌評選”是由品牌排行網(wǎng)主辦的范圍廣、規模大的品牌綜合實(shí)力排名評選活動(dòng)。

靶材企業(yè)目前，大部分國家的靶材制造行業(yè)，特別是高純度的靶材市場(chǎng)，呈現寡頭壟斷格局，主要由幾家美日大企業(yè)把持著(zhù)，如日本的三井礦業(yè)、日礦金屬、日本東曹、住友化學(xué)、日本愛(ài)發(fā)科，以及美國霍尼韋爾、普萊克斯等。根據有研新材數據估算，日礦金屬是大部分國家大的靶材供應商，靶材銷(xiāo)售額約占大部分國家市場(chǎng)的30%，霍尼韋爾在并購JohnsonMattey、整合高純鋁、鈦等原材料生產(chǎn)廠(chǎng)后，占到大部分國家市約20%的份額，此外，東曹和普萊克斯分別占20%和10%。半導體芯片行業(yè)用的金屬濺射靶材，主要種類(lèi)包括：銅、鉭、鋁、鈦、鈷和鎢等高純?yōu)R射靶材，以及鎳鉑、鎢鈦等合金類(lèi)的濺射靶材。銅靶和鉭靶通常配合起來(lái)使用。目前晶圓的制造正朝著(zhù)更小的制程方向發(fā)展。

提高了空間的利用率；另一方面通過(guò)將活動(dòng)座可拆卸于安裝軌上并能夠調節各活動(dòng)座的相對，可以根據靶材厚度不同選用槽寬不同的活動(dòng)座，并可以根據靶材的長(cháng)度調節各活動(dòng)座的，使各活動(dòng)座協(xié)同作用能夠很好的起到支撐靶材的作用，避免靶材存放中由于支護不適而出現變形，能夠很好的適用于各種靶材。濺射靶材在制備技術(shù)上按生產(chǎn)工藝可分為熔融鑄造法和粉末冶金法兩大類(lèi)。在靶材制備過(guò)程中，在嚴格控制純度、致密度、晶粒度、結晶取向的基礎上，通過(guò)選擇不同的熱處理工藝及后續成型加工過(guò)程以確保靶材的質(zhì)量。通常的銦都是4N的，也就是99.99%，要做6N（99.9999%）的銦，需要利用這一特性對銦金屬進(jìn)行真空熔煉可以把里面的蒸氣壓高的金屬雜質(zhì)除掉。

廣州市尤特新材料有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“尤特”），成立于2003年，位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬(wàn)平方米。尤特是一家專(zhuān)注于時(shí)尚消費電子產(chǎn)業(yè)、節能綠色環(huán)保產(chǎn)業(yè)、新材料新技術(shù)開(kāi)發(fā)和應用的重要高新技術(shù)企業(yè)。尤特以生產(chǎn)信息存儲記錄材料為起點(diǎn)，經(jīng)過(guò)10多年的開(kāi)拓與發(fā)展，產(chǎn)業(yè)技術(shù)不斷迭代與升級，尤特的技術(shù)及應用涉獵范圍逐步擴大，其中主要包括：真空鍍膜靶材；環(huán)保（UV/水性）材料；觸控顯示材料；印刷技術(shù)及材料；信息存儲材料、導電散熱材料等。尤特一直倡導“新材料、促環(huán)保、美生活”企業(yè)使命。尤特遵循科學(xué)體系管理，先后通過(guò)《質(zhì)量管理體系》、《環(huán)境管理體系》、《職業(yè)健康與安全管理體系》認證并有效運行，產(chǎn)品符合全部環(huán)境及安全標準；獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認證等。尤特重視產(chǎn)品研發(fā)及技術(shù)創(chuàng )新，先后與"武漢大學(xué)"、"華南理工大學(xué)"、"中南大學(xué)"等高校、研究所建立"產(chǎn)學(xué)研"合作機制，并承擔多項省市立項的科研項目，公司目前已擁有幾十項自主研發(fā)新興材料及工藝的知識產(chǎn)權，是廣州市扶持科技型要點(diǎn)培育上市企業(yè)。尤特先后獲得相關(guān)機構的授予多個(gè)榮譽(yù)：如“國家生產(chǎn)力促進(jìn)獎、國家有名商標、廣東省守合同重信用企業(yè)、廣東省雇主責任示范企業(yè)、廣州市安全生產(chǎn)標準化達標企業(yè)、廣州市工程技術(shù)研發(fā)中心、廣州科技小巨人企業(yè)、地方納稅企業(yè)”等榮譽(yù)。尤特全體同仁秉承“創(chuàng )造價(jià)值，分享價(jià)值“的核心價(jià)值觀(guān)，借鑒以往成功管理運營(yíng)經(jīng)驗，持續深挖磁控濺射鍍膜材料下游應用市場(chǎng)，不斷拓寬市場(chǎng)應用領(lǐng)域，做優(yōu)做強鍍膜材料產(chǎn)業(yè),將公司打造為--磁控濺射靶材行業(yè)者。

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