玻璃鍍膜靶材,PET鍍膜靶材,

? ? ? 鈦及鈦合金具有不錯的物理、化學(xué)和機械性能，在各領(lǐng)域有廣泛應用。通過(guò)制備鈦涂層可顯著(zhù)提高零部件表面耐腐蝕性。采用超音速等離子噴涂技術(shù)（SAPS）制備了鈦涂層，結果表明：制備的鈦涂層均勻致密，孔隙率平均為 1.7%，沉積效率平均為 52%，涂層中主要為 Ti相，O含量小于3%、N 含量小于 5%,制備的鈦涂層性能較好，與低壓等離子噴涂、冷噴涂相比較，涂層制備成本更低，操作更便捷，在工業(yè)應用

2024-08-20 面議/套

電子電路用硅靶材,4N硅靶材,

? ? ? 磁控濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)，也是PVD的一種。它通過(guò)在PVD設備中用離子對目標物進(jìn)行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料。稱(chēng)為濺射靶材。氮化物是在電子和光電子應用方面有較大潛力的新型半導體材料,它在室溫下具有高電子遷移率和良好導電性的優(yōu)勢。是目前大部分國家半導體研究的****和熱點(diǎn)，是研制微電子

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旋轉銀靶材,濺射銀靶材,銀靶

旋轉銀靶，主要用于Low-E玻璃膜系，薄膜太陽(yáng)能電池電極膜系,TFT,半導體。近年，冷噴涂作為一種新型噴涂工藝被用在金屬表面制備高質(zhì)量的金屬涂層。與傳統的熱噴涂工藝相比，冷噴涂工藝的典型特點(diǎn)是利用較低的工作氣體溫度（室溫~600 ℃）形成涂層，因此，可利用冷噴涂工藝的優(yōu)勢在不改變噴涂原材料組織結構的前提下制備涂層。研究人員用AZ31鎂合金作為基體，噴涂粉末分別用粒徑為25mm和40mm鋁粉。研究發(fā)

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不銹鋼靶材廠(chǎng)家,供應不銹鋼

? ? ? 靶材，特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的物理-氣相沉積工藝（PVD）、太陽(yáng)能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術(shù)，也是PVD的一種。它通過(guò)在PVD設備中用離子對目標物進(jìn)行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料。稱(chēng)為濺射靶材。 ? ? ? 薄膜太陽(yáng)能電池比傳統的晶體硅太

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硅靶材密度,硅靶材摻磷,硅靶

硅的原子結構決定了硅原子具有一定的導電性，但由于硅晶體中沒(méi)有明顯的自由電子，因此導電率不及金屬，且隨溫度升高而增加，因而具有半導體性質(zhì)。微電子領(lǐng)域對靶材濺射薄膜的品質(zhì)和電阻要求是相當苛刻的。硅片制造商對靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細晶粒，這就要求所制造的靶材具有更好的微觀(guān)結構。電阻率是硅靶材產(chǎn)品的重要參數之一，除特殊用途外，絕大多數硅靶材電阻率要求越低越好，開(kāi)始應用時(shí)電阻率要求在0.1-0

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空心管靶,空心靶材,旋轉銀靶

? ? ? 平板顯示靶材技術(shù)要求也很高，它要求材料高純度、面積大、均勻性程度高。鋁、銅、鉬、鉻等，主要應用于薄膜太陽(yáng)能電池，太陽(yáng)能靶材技術(shù)要求高、應用范圍大。信息存儲靶材的原材料有鉻基、鈷基合金等，用于光驅、光盤(pán)、機械硬盤(pán)、磁帶等。信息存儲靶材具備高存儲密度、高傳輸速度等特性。濺射靶材種類(lèi)繁多，就ITO導電玻璃中使用硅靶.鋁靶.鈮靶等三種以上。根據應用領(lǐng)域的不同，靶材的材料、形狀也會(huì )有所差異。根據

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銅背板,銅背板定制,銅背板源

? ? ? 預計在2021年異質(zhì)結的產(chǎn)能會(huì )提升至10.5GW。隨著(zhù)異質(zhì)結技術(shù)的逐漸成熟，也可和其他光伏電池技術(shù)相結合，例如異質(zhì)結 I電池、異質(zhì)結鈣鈦礦疊層電池。作為行業(yè)內率先布局異質(zhì)結的企業(yè)之一，東方日升在HJT技術(shù)研發(fā)、量產(chǎn)等方面均具備****優(yōu)勢。其推出的行業(yè)內首半片HJT組件產(chǎn)品，效率高達21.9%，溫度系數為-0.24%/℃。用準確儀器設備在半導體芯片各個(gè)功能層上鍍覆一層薄薄的透明金屬導電

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陶瓷靶,AZO靶,AZO靶材廠(chǎng)家

? ? ? AZO靶材是其中一種制造高科技節能玻璃鍍膜材料。銀銅合金靶材供應。陶瓷靶材。UVTM擁有真空等離子噴涂、真空熔煉爐、數控線(xiàn)切割、熱等靜壓等生產(chǎn)設備，熱噴涂、難熔金屬及液晶材料生產(chǎn)線(xiàn)。公司在大力拓展市場(chǎng)的同時(shí)，不斷完善內部體制。尤特新材在2009年率先在同行業(yè)中通過(guò)了ISO2008質(zhì)量體系認證。為滿(mǎn)足高等客戶(hù)嚴格要求，公司與多所國內高校、研究院、業(yè)內相關(guān)人士進(jìn)行交流和合作，并建立了400

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旋轉AZO靶材,AZO旋轉靶材,AZ

? ? 20世紀90年代以來(lái)靶材已蓬勃發(fā)展成為一個(gè)專(zhuān)業(yè)化產(chǎn)業(yè)，中國及亞太地區靶材的需求占有世界70%以上的市場(chǎng)份額。大量不同的沉積技術(shù)用來(lái)沉積生長(cháng)各種薄膜 ，而靶材是制作薄膜的關(guān)鍵，品質(zhì)的好壞對薄膜的意義重大。目前高等品質(zhì)靶材主要由:日本、德國和美國生產(chǎn)，我國靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚，在產(chǎn)品質(zhì)量與精細標準上與國外有不少的差距，國內也有許多大學(xué)及研究機構對靶材積極投入了大量鉆研與開(kāi)發(fā)，經(jīng)過(guò)這幾年的發(fā)展也涌現

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