ITO靶材,氧化銦錫靶材,平面I

?目前，異質(zhì)結還沒(méi)有形成規模，產(chǎn)業(yè)鏈也沒(méi)有成熟，還有一些技術(shù)問(wèn)題需要解決。但晉能認為，異質(zhì)結降本路線(xiàn)圖已經(jīng)非常清晰。一是降低低溫銀漿用量;二是將運用在平板顯示中的ITO靶材技術(shù)為光伏行業(yè)所用;三是發(fā)展“國產(chǎn)”制絨添加劑技術(shù)，降低外來(lái)進(jìn)口成本;四是按照異質(zhì)結這一技術(shù)特點(diǎn)來(lái)優(yōu)化、設計PECVD、磁控濺射設備。降本這一目標實(shí)現以后，異質(zhì)結成本至少可以和單晶PERC單瓦成本持平，其效率卻比PERC高，再加

2024-08-09 面議/千克

氧化鈦靶材密度,氧化鈦靶材

氧化物陶瓷靶材屬于陶瓷產(chǎn)品，由于對純度、密度、尺寸、形狀，以及成分、結構、均勻性等都有特殊要求，其制備南都較高。氧化物陶瓷靶材作為重要的關(guān)鍵基礎材料，多年來(lái)一直被靶材研究人員關(guān)注。與德國、日本等世界靶材強國相比，我國陶瓷靶材研究相對落后，但是近年來(lái)，隨著(zhù)全球光電產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，國內大型靶材公司加大投入，取得了很大的成果。 ? ? ? ? 陶瓷靶材結構的發(fā)展鍍膜市場(chǎng)不僅對各種鍍膜產(chǎn)品尺寸、鍍膜品質(zhì)、生產(chǎn)

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高純鈦靶材，噴涂鈦靶,一體

? ? 鍍膜靶材是用物理或化學(xué)的方法在靶材表面鍍層透明的電解質(zhì)膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變靶材表面的反射和透射特性。而鍍膜的方法有真空鍍膜和光學(xué)鍍膜，真空鍍膜和光學(xué)鍍膜的區別是什么。在19世紀末，ITO薄膜的研究工作開(kāi)始真實(shí)地發(fā)展了起來(lái)，當時(shí)是在光電導的材料上獲得很薄的金屬薄膜。而關(guān)于透明導電材料的研究進(jìn)入一個(gè)新的時(shí)期，則是在第二次世界大戰期間，主要應用于飛機的除冰窗戶(hù)玻璃。而在1950年，第二

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氧化鋅鋁靶材 AZO靶材

產(chǎn)品用途（Application）用于光伏TCO玻璃，建筑汽車(chē)玻璃膜系。 ? 產(chǎn)品化學(xué)成分和物理性能：(Physical and chemical properties of the product）化學(xué)式( Chemical Composition) ： ZnO.Al2O3(98:2wt%)成型工藝（Molding process）：熱壓燒結(HP)密度(Density ):>5.4g/cm3（

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氧化鈮旋轉靶材,氧化鈮靶材

芯片制造對濺射靶材金屬純度的要求較高，通常要達到99.9995%以上，而平板顯示器、太陽(yáng)能電池分別要求達到99.999%、99.995%以上即可。除了純度之外，芯片對濺射靶材內部微觀(guān)結構等也設定了極其苛刻的標準，需要掌握生產(chǎn)過(guò)程中的關(guān)鍵技術(shù)，并經(jīng)過(guò)長(cháng)期實(shí)踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品。半導體制造流程當中，濺射靶材無(wú)疑是重中之重的原材料，其質(zhì)量和純度對半導體產(chǎn)業(yè)鏈的后續生產(chǎn)質(zhì)量起著(zhù)關(guān)鍵性作用。非常高純

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旋轉銀靶材,平面銀靶,銀管靶

光伏薄膜電池用靶材主純度要求一般在99.99%（4N）以上，光伏領(lǐng)域對靶材的使用主要是薄膜電池和HIT光伏電池。太陽(yáng)能電池主要包括晶硅電池和薄膜電池，環(huán)節以及HIT（異質(zhì)結）電池的導體層，異質(zhì)結電池可實(shí)現25%的轉換效率。傳統的太陽(yáng)能電池用靶材會(huì )用到鋁、銅、鉬、鉻等，主要應用于薄膜太陽(yáng)能電池。太陽(yáng)能靶材技術(shù)要求高、應用范圍大。信息存儲靶材的原材料有鉻基、鈷基合金等，用于光驅、光盤(pán)、機械硬盤(pán)、磁帶等

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ito靶材出口,ito靶材供應商,

國內靶材公司的發(fā)展趨勢如何？目前全球高端靶材市場(chǎng)主要分布于韓國、寶島、中國、日本，主要供應商在日本，韓國。中國市場(chǎng)目前年消耗ITO靶材約300噸，但處于快速增長(cháng)之中，多條高世代液晶面板線(xiàn)（京東方，華星光電，惠科HKC，天馬，熊貓電子，三星蘇州，LG廣州等）正在建設或規劃建設中。然而中國ITO靶材被國外供應商壟斷，國產(chǎn)靶材市場(chǎng)份額僅約5%。ITO靶材生產(chǎn)的主要原料為稀有金屬銦，中國是世界上較好的銦金

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光伏靶材,光伏ito靶材,9901i

? ? ? 芯片對濺射靶材的要求非常之高要求靶材純度很高一般在5N（99.999%）以上。5N就是表示有5個(gè)9，4N表示有4個(gè)9即99.99%，哪個(gè)純度更高一看就明白了。在提純領(lǐng)域，小數點(diǎn)后面每多一個(gè)9，難度是呈指數級別的增加，技術(shù)門(mén)檻也就更高。應用與市場(chǎng)格局到這里，知道了高純?yōu)R射靶材，知道了金屬靶材的鋁、鈦、銅、鉭那怎么判斷哪個(gè)金屬應用幾寸晶圓上哪個(gè)用在先進(jìn)制造工藝上？半導體晶圓制造中200mm

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旋轉硅鋁鋯靶材,硅鋯靶材,硅

旋轉硅鋁靶 Rotatable SiAl Alloy target，應用：用于制作SiO2膜、Si3N4膜，主要用于光學(xué)玻璃AR膜系，Low-E玻璃膜系,半導體電子, TFT, 平面顯示. 觸摸屏玻璃 產(chǎn)品化學(xué)成分和物理性能：化學(xué)式：SiAl 成分： SiAl（90：10wt%±2%、25:75wt%）成型工藝：噴涂密度: >2.2g/cm3（>94%）純度: > 99.9%較大雜質(zhì)含量 （單位:

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高純硅靶材,旋轉硅靶材,平面

真空鍍膜機的發(fā)展相當迅速，隨著(zhù)生產(chǎn)率的提高，生產(chǎn)費用大大降低，已經(jīng)為真空鍍膜產(chǎn)品的普遍使用鋪平了道路。以卷繞式真空鍍膜機為例，剛開(kāi)發(fā)時(shí)可鍍的薄膜基材寬度是150mm，目前已達2253mm�；�材卷筒的卷徑是1000mm，卷繞速度750m/min。自動(dòng)裝卸的半連續卷繞式真空鍍膜機鍍膜時(shí)間占整個(gè)周期的75%，輔助操作時(shí)間只占25%。隨著(zhù)計測技術(shù)、控制技術(shù)的進(jìn)步和電子計算機的應用，卷繞式真空鍍膜機正向著(zhù)高

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