靶材的技術(shù)發(fā)展趨勢與下游應用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢息息相關(guān)。不斷研發(fā)滿(mǎn)足薄膜性能要求的新型靶材發(fā)展。經(jīng)過(guò)多年的科技攻關(guān)和產(chǎn)業(yè)化應用，目前國內高純?yōu)R射靶材生產(chǎn)企業(yè)已經(jīng)逐漸掌握關(guān)鍵技術(shù)門(mén)檻，結束了零的局面，生產(chǎn)能力，可以預見(jiàn)未來(lái)會(huì )達到高速發(fā)展時(shí)期。

隨著(zhù)消費電子等終端應用的飛速發(fā)展，高純度濺射靶材的市場(chǎng)銷(xiāo)售額日益擴大。中國及亞太地區靶材的需求占有世界70%以上的市場(chǎng)份額。研究用大量不同的沉積技術(shù)用來(lái)沉積生長(cháng)各種薄膜。其中靶材是制作薄膜的關(guān)鍵，靶材品質(zhì)的好壞對薄膜的意義重大。磁控膜玻璃出現脫膜現象幾大原因：原片存放因素，玻璃表面越新鮮，表面活性越大，與膜層的結合力越強，反之則差。使用存放期過(guò)長(cháng)的玻璃，由于玻璃表面霉變和附著(zhù)的污物會(huì )大量增加。

磁控濺射靶材廣泛應用于用于建筑/汽車(chē)玻璃工業(yè)、薄膜太陽(yáng)能工業(yè)、平面顯示工業(yè)、裝飾/功能鍍膜工業(yè)。隨著(zhù)國內靶材行業(yè)研發(fā)的投入和發(fā)展，國內已有靶材供應商、制造商的生產(chǎn)出來(lái)的靶材達到了進(jìn)口的水平。在廣州，尤特新材料成為全球全球較好個(gè)研制最長(cháng)、最厚旋轉靶材的制造商，隨著(zhù)研發(fā)的持續投入，國內靶材行業(yè)的未來(lái)值得期待。磁控濺射是一種物理氣相沉積的。濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，具有設備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著(zhù)力強等優(yōu)點(diǎn)。因為是在低氣壓下進(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率

平面靶材主要產(chǎn)品目錄 Planar Target List

1. 鉻靶（Cr Target）

2. 硅靶（Si Target）

3. 鈦靶（Ti Target ）

4. 石墨靶（C Target）

5. 銀靶（ Ag Target）

6. 銅靶（ Cu Target）

7. 鈦鋁合金靶（TiAl Alloy Target）

8. 鎳鉻合金靶（NiCr Alloy Target）

9. 氧化鈦靶（TiOx Target）

10. 鉬鈮靶 （MoNb Target)

11. 鋁釹靶 （AlNd Target)

12. 氧化鈮靶 (NbOx Target）

13. 氧化鋅鋁靶 (AZO Target)

14. 氧化鋅靶 (i-ZnO Target )

15. 鉬靶 (Mo Target)

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