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價(jià)格(不含稅)
1
650.00元/公斤
供應標題:金屬鈮靶材,噴涂鈮管靶,綁定鈮靶材,一體鈮靶材
價(jià)格:電儀
發(fā)布公司:廣州市尤特新材料有限公司
供貨總量:99999
聯(lián)系人:楊永添
發(fā)貨地點(diǎn):廣東 廣州 花都區
發(fā)布時(shí)間:2024年08月14日
有效期至:2025年09月13日
在線(xiàn)詢(xún)盤(pán):在線(xiàn)詢(xún)盤(pán)
產(chǎn)品綜合信息質(zhì)量:未計算
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芯片行業(yè)擁有一條超長(cháng)的產(chǎn)業(yè)鏈,其整體可分為設計、制造、封裝、測試四大環(huán)節。除了在設計領(lǐng)域。日本是主要的半導體材料生產(chǎn)國,并在半導體材料里長(cháng)期保持優(yōu)勢,體芯片需要19種左右的必須的材料,缺一不可,且大多數材料具備高的技術(shù)壁壘。薄膜復晶)、焊線(xiàn)、封裝材料等14種重要材料方面均占有50%以上的份額。根據中國濺射靶材行業(yè)市場(chǎng)數據顯示:靶材在半導體材料中占比約為2.5-3%。靶材是濺射薄膜制備的源頭材料,又稱(chēng)濺射靶材。由于半導體濺射靶材市場(chǎng)與晶圓產(chǎn)量存在直接關(guān)系,以中國大陸晶圓廠(chǎng)產(chǎn)能占比例為15%計算,2019年中國半導體濺射靶材市場(chǎng)約1.7億美元。隨著(zhù)晶圓廠(chǎng)產(chǎn)能向中國轉移,半導體用靶材市場(chǎng)將達到1.5億美元。同比增長(cháng)25%。
濺射:是集成電路制造過(guò)程中要反復用到的工藝;靶材:就是濺射工藝中必不可少的重要原材料。濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一,它利用離子源產(chǎn)生的離子,在真空中經(jīng)過(guò)加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換,使固體表面的原子離開(kāi)固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱(chēng)為濺射靶材。在靶材制造的過(guò)程中,需要經(jīng)歷粉末冶煉、粉末混合、壓制成型、氣氛燒結、塑性加工、熱處理、超聲探傷、機械加工、水切割、機械加工、金屬化、綁定、超聲、超聲清洗、檢驗出貨。磁控濺射一般分為二種:直流濺射和射頻濺射,其中直流濺射設備原理簡(jiǎn)單,在濺射金屬時(shí),其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛。除可濺射導電材料外,也可濺射非導電的材料,同時(shí)還可進(jìn)行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。
尤供用應的AZO靶材,出口多個(gè)國家,目前能
2024-07-14透明導電氧化物(TCO)薄膜因其導電性和透光
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