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硅鋁靶材價(jià)格,硅鋁靶材廠(chǎng)家,供應硅鋁靶材
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價(jià)格(不含稅)
1
7900.00元/套
供應標題:硅鋁靶材價(jià)格,硅鋁靶材廠(chǎng)家,供應硅鋁靶材
價(jià)格:電儀
發(fā)布公司:廣州市尤特新材料有限公司
供貨總量:9999
聯(lián)系人:楊永添
發(fā)貨地點(diǎn):廣東 廣州 花都區
發(fā)布時(shí)間:2024年07月23日
有效期至:2025年09月18日
在線(xiàn)詢(xún)盤(pán):在線(xiàn)詢(xún)盤(pán)
產(chǎn)品綜合信息質(zhì)量:未計算
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基本信息
一般情況下,磁控濺射沉積ITO薄膜時(shí)的濺射電壓在-400V左右,如果使用一定的工藝方法將濺射電壓降到-200V以下,那么所沉積的ITO薄膜電阻率將降低50%以上。產(chǎn)品質(zhì)量。同時(shí)也降低了產(chǎn)品的生產(chǎn)成本。將ITO玻璃進(jìn)行加工處理、經(jīng)過(guò)鍍膜形成電極,其中兩種在直流磁控濺射制備ITO薄膜時(shí),降低薄膜濺射電壓的有效途徑磁場(chǎng)強度對濺射電壓的影響當磁場(chǎng)強度為300G時(shí),濺射電壓約為-350v;但當磁場(chǎng)強度升高到1000G時(shí),濺射電壓下降至-250v左右。一般情況下,磁場(chǎng)強度越高、濺射電壓越低,但磁場(chǎng)強度為1000G以上時(shí),磁場(chǎng)強度對濺射電壓的影響就不明顯了。ITO薄膜的濺射電壓,可以通過(guò)合理的增強濺射陰極的磁場(chǎng)強度來(lái)實(shí)現。
氧化銦錫與其它透明的半導體導電薄膜相比,ITO具有良好的化學(xué)穩定性和熱穩定性。對襯底具有良好的附著(zhù)性和圖形加工特性。ITO為一種N型氧化物半導體,作為納米銦錫金屬氧化物,具有很好的導電性和透明性,可以切斷對人體有害的電子輻射,紫外線(xiàn)及遠紅外線(xiàn)。因此,噴涂在玻璃,塑料及電子顯示屏上后,在增強導電性和透明性的同時(shí)切斷對人體有害的電子輻射及紫外、紅外。隨著(zhù)國外持續蔓延,作為半導體產(chǎn)業(yè)中心的日韓和日子都不好過(guò)。據信息公司FnGuide的估算,韓國半導體行業(yè)在所有行業(yè)中降幅達到66.5%。大多數半導體企業(yè)一季度利潤都大幅下滑,SK海力士利潤同比減少66.5%;LG化學(xué)由于位于密歇根州的工廠(chǎng)被封鎖。
凡通過(guò)測定物理參數直接計出氣體壓強的真空計稱(chēng)為真空計。通過(guò)測量與壓強有關(guān)物理量,并進(jìn)行計算得到壓強值的真空計稱(chēng)為相對真空計。真空計精度較高,一般作為標準用,在實(shí)際生產(chǎn)中,大都使用相對真空計。磁控濺射鍍膜靶材:金屬濺射鍍膜靶材,合金濺射鍍膜靶材,陶瓷濺射鍍膜靶材,硼化物陶瓷濺射靶材,碳化物陶瓷濺射靶材,氟化物陶瓷濺射靶材,氮化物陶瓷濺射靶材,氧化物陶瓷靶材一氧化硅、SiO,二氧化鉿、HfO?,二硼化鉿,氯氧化鉿,二氧化鋯、ZrO2,二氧化鈦、TiO2,一氧化鈦、TiO,二氧化硅、SiO2,二鈦、Ti2O3,五氧化三鈦、Ti3O5,五氧化二鉭、Ta2O5,五氧化二鈮、Nb2O5,二鋁、Al2O3。二鈧、Sc2O3。靶。
高品質(zhì)靶材生產(chǎn)制造企業(yè)大部分國家銦消費的70%都用來(lái)生產(chǎn)ITO靶材電子半導體和無(wú)線(xiàn)電領(lǐng)域銦具有沸點(diǎn)高、低電阻和抗腐蝕等特性,在電子半導體和無(wú)線(xiàn)電行業(yè)也有廣泛應用。有相當大部分的金屬銦用于生產(chǎn)半導體材料。在無(wú)線(xiàn)電和電子工業(yè)中,銦用于制造特殊的接觸裝置,即將銦和銀的氧化物經(jīng)混合后壓制而成。濺射靶材種類(lèi)繁多,就ITO導電玻璃中使用硅靶.鋁靶.鈮靶等三種以上。顯示行業(yè)主要在顯示面板和觸控屏面板兩個(gè)產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)節需要使用靶材濺射鍍膜。用于高清電視、筆記本電腦等。平板顯示靶材技術(shù)要求也很高,它要求材料高純度、面積大、均勻性程度高。鋁、銅、鉬、鉻等,主要應用于薄膜太陽(yáng)能電池,太陽(yáng)能靶材技術(shù)要求高、應用范圍大。靶材的核心功能是作為沉積薄膜的濺射源,按材質(zhì)可分為金屬靶、陶瓷靶與合金靶,其下游應用主要包括平板顯示器、半導體、光伏電池、記錄媒體等領(lǐng)域。根據世界半導體貿易統計協(xié)會(huì )2018年的數據,靶材應用領(lǐng)域中,面板市場(chǎng)占比較大,達33.8%,其次是記錄媒體,占比達到28.6%,光伏電池占18.5%。
不同用途的靶材對不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如,半導體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材,對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。密度為了減少靶材固體中的氣孔。日本顯示公司(簡(jiǎn)稱(chēng)JDI)日前宣布與半導體能源研究所簽署了技術(shù)開(kāi)發(fā)協(xié)議,雙方將聯(lián)合開(kāi)發(fā)用于代顯示器(包括OLED顯示器)的氧化物半導體背板技術(shù)(Ode-semiconductorbackplechnolo)。SEL的背板技術(shù)被稱(chēng)為c-軸對齊晶體(CAAC),是其與夏普(Sharp)聯(lián)合開(kāi)發(fā)的。CAAC是基于具有新型晶體結構的IGZO薄膜。SEL表示,CAAC-IGZO(稱(chēng)之為氧化物半導體CAAC-OS)具有極低的關(guān)閉電流,可較大地降低功耗。SEL成功制備了CAAC-OS原型背板。nb。
半導體芯片行業(yè)是金屬濺射靶材的主要應用領(lǐng)域之一。由于HJT電池的工藝要求較高,因此ITO濺射靶材的比例和純度非常重要。什么是高純?yōu)R射靶材?就是利用各種高純單質(zhì)貨品及新型化合物制得的功能薄膜為(簡(jiǎn)單理解就是純度更高),主要用于對材料純度、穩定性要求更高的領(lǐng)域,像集成電路、平板顯示器、太陽(yáng)能電池、記錄媒體、智能玻璃等行業(yè)。在濺射靶材應用領(lǐng)域中,半導體芯片對濺射靶材的要求是比較高的,要求靶材純度很高,一般在5N(99.999%)以上。日本在電子行業(yè)的上游材料領(lǐng)域占據了優(yōu)勢,在硅晶圓材料、光罩、靶材等重要的細分子領(lǐng)域的市場(chǎng)份額都超過(guò)50%。高純靶材用量較大的行業(yè)主要有半導體集成電路、平板顯示器、太陽(yáng)能電池、磁記錄介質(zhì)、光學(xué)器件等。
隨著(zhù)市場(chǎng)需求的逐步擴大,及行業(yè)技術(shù)的逐漸發(fā)展,韓國企業(yè)陸續進(jìn)入,包括韓國LG化學(xué),SKC等企業(yè)。具備一定技術(shù)實(shí)力的中國地區企業(yè)。大陸企業(yè)也紛紛進(jìn)入這一行業(yè)。在靶材應用領(lǐng)域中,半導體芯片對靶材的金屬材料純度、內部微觀(guān)結構等方面都設定了極其苛刻的標準,需要掌握生產(chǎn)過(guò)程中的關(guān)鍵技術(shù)并經(jīng)過(guò)長(cháng)期實(shí)踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品。因此,半導體芯片對靶材的要求是比較高的,價(jià)格也昂貴。濺射靶材種類(lèi)繁多,就ITO導電玻璃中使用硅靶.鋁靶.鈮靶等三種以上。顯示行業(yè)主要在顯示面板和觸控屏面板兩個(gè)產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)節需要使用靶材濺射鍍膜。用于高清電視、筆記本電腦等。平板顯示靶材技術(shù)要求也很高,它要求材料高純度、面積大、均勻性程度高。綁定。
近年來(lái),我國相關(guān)部門(mén)制定了一系列產(chǎn)業(yè)政策,如863計劃、02專(zhuān)項設立資金等來(lái)加速濺射靶材供應的本土化進(jìn)程,推動(dòng)國產(chǎn)靶材在多個(gè)應用領(lǐng)域實(shí)現從無(wú)到有的跨越。這些都從國家戰略高度扶植并推動(dòng)著(zhù)濺射靶材產(chǎn)業(yè)的發(fā)展壯大。目前國內靶材行業(yè)已經(jīng)初具規模,隨著(zhù)國內靶材企業(yè)的技術(shù)創(chuàng )新,在半導體、面板以及光學(xué)器件等領(lǐng)域出現了具備和日美跨國集團競爭的本土靶材企業(yè)。“半導體器件用鎳鉑靶材的制備關(guān)鍵技術(shù)及產(chǎn)業(yè)化”取得重大打破,建立了生產(chǎn)線(xiàn)并取得良好經(jīng)濟效益,鎳鉑靶材替代了***同類(lèi)產(chǎn)品并遠銷(xiāo)海外。WSTS預計,2018年大部分國家半導體規模增速達12.4%。2010~2016年,大部分國家半導體銷(xiāo)售額保持平穩發(fā)展,而2017年大部分國家市場(chǎng)增速超預期,達21.62%,特別是存儲器市場(chǎng),增速高達61.49%。一方面,存儲芯片需求旺盛,產(chǎn)品價(jià)格大幅上漲,另一方面,物聯(lián)網(wǎng)、汽車(chē)電子、AI等新應用拉動(dòng)下游需求,WSTS 預計,在A(yíng)I、智能駕駛、5G、VR/AR等需求持續帶動(dòng)下,2018年大部分國家半導體行業(yè)將實(shí)現12.4%的增速,2019年的增速預估為4.4%。
廣州市尤特新材料有限公司基本信息
員工人數:200-500人 廠(chǎng)房面積: 年營(yíng)業(yè)額:
年進(jìn)口額: 年出口額: 主要市場(chǎng):
客戶(hù)群:
公司名稱(chēng):廣州市尤特新材料有限公司
注冊資本:人民幣2000萬(wàn)元/年-人民幣5000萬(wàn)元/年 公司網(wǎng)址:http://UVTMCOM.glass.com.cn主營(yíng)產(chǎn)品:濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨 公司成立年份:2003
公司網(wǎng)址:http://UVTMCOM.glass.com.cn
產(chǎn)品屬性:
計量單位:套 供貨總量:9999 最小起訂量:1 產(chǎn)品單價(jià):7900.00 品牌: 規格型號: 包裝說(shuō)明: