? ? ? 同時(shí)也對濺射靶材的晶粒晶向控制提出了更高的要求。高純貨品靶材在電子信息產(chǎn)業(yè)中的應用廣泛，因貨品有良好的化學(xué)穩定性，高電導率、熱導率，以及特有的電學(xué)、磁學(xué)、光學(xué)等性能。顯示行業(yè)主要在顯示面板和觸控屏面板兩個(gè)產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)節需要使用靶材濺射鍍膜。用于高清電視、筆記本電腦等。平板顯示靶材技術(shù)要求也很高，它要求材料高純度、面積大、均勻性程度高。鋁、銅、鉬、鉻等，主要應用于薄膜太陽(yáng)能電池，太陽(yáng)能靶材技術(shù)要求高、應用范圍大。信息存儲靶材的原材料有鉻基、鈷基合金等，用于光驅、光盤(pán)、機械硬盤(pán)、磁帶等。信息存儲靶材具備高存儲密度、高傳輸速度等特性。濺射靶材種類(lèi)繁多，就ITO導電玻璃中使用硅靶.鋁靶.鈮靶等三種以上。

終端應用是針對各類(lèi)市場(chǎng)需求利用封裝好的元器件制成面向終用戶(hù)的產(chǎn)品，包括太陽(yáng)能電池、智能手機、平板電腦、家用電器等終端消費電子產(chǎn)品，此環(huán)節技術(shù)面較寬，呈現多樣化特征。在濺射靶材應用領(lǐng)域中，半導體芯片對濺射靶材的金屬材料純度、內部微觀(guān)結構等方面都設定了極其苛刻的標準，因此半導體芯片對濺射靶材的要求是高的，通常要求達到99.9995% (5N5)以上，價(jià)格也為昂貴。相較于半導體芯片，平面顯示器、太陽(yáng)能電池對于濺射靶材的純度和技術(shù)要求略低一籌，分別要求達到99.999%(5N),99.995%(4N5)以上。但隨著(zhù)靶材尺寸的加大，對濺射靶材的焊接結合率、平整度等指標提出了更高的要求。

? ? 隨著(zhù)5G在中國的正式商用，廠(chǎng)商調整戰略發(fā)展，大尺寸化進(jìn)程的推動(dòng)、4K/8K高清發(fā)展戰略落地，AI與IoT結合的智慧屏概念走紅，品牌齊發(fā)物聯(lián)網(wǎng)生態(tài)戰略，柔性折疊OLED、QLED、Mini&Mic-LED、激光投影等新型顯示技術(shù)取得技術(shù)破突，整個(gè)顯示產(chǎn)業(yè)在技術(shù)層面迭代速度加快，更多新技術(shù)、新產(chǎn)品在中國市場(chǎng)率先發(fā)布。磁控濺射裝置作為一種鍍膜裝置已被廣泛應用于各種電子產(chǎn)品、裝飾品等產(chǎn)品的鍍膜領(lǐng)域。隨著(zhù)磁控濺射鍍膜技術(shù)的發(fā)展，研究人員主要朝這兩個(gè)方向努力，一是通過(guò)提高靶表面磁場(chǎng)的均勻分布提高靶材利用率，二是通過(guò)密排磁體增強磁場(chǎng)強度和提升冷卻設計以提高靶的濺射速率�，F有磁控濺射裝置的圓形平面陰極靶磁場(chǎng)弱。****。

? ? ? 高純鋁及鋁合金是目前使用廣泛的導電層薄膜材料之一。和超大規模集成電路芯片的制造對濺射靶材金屬純度的要求相比，太陽(yáng)能電池用鋁靶的金屬純度略低，99.995%（4N5）以上。目前制備薄膜電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等。鋁靶、銅靶用于導電層薄膜，鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜。光伏領(lǐng)域對靶材的使用主要是薄膜電池和HIT光伏電池。其中光伏薄膜電池用靶材主要為方形板狀，純度要求一般在99.99%（4N）以上，僅次于半導體用靶材。HJT量產(chǎn)的關(guān)鍵點(diǎn)在于PECVD。2019年海外應材和梅耶博格的PECVD價(jià)格接近5億元/GW，設備雖然成熟但價(jià)格太高，整線(xiàn)的設備投資達到7-8億元。對比海內外四大設備，海外設備較為成熟，但核心設備價(jià)格較高不具備量產(chǎn)經(jīng)濟性。

? ? ? 主要用于五金裝飾的耐磨、耐腐蝕硬膜，LOW-E鍍膜玻璃，半導體電子加工尺寸:長(cháng)度:4000MM厚度:6-10MM，直型、狗骨型，對于貨品靶材，若剩余下的高純殘靶若以普通廢料進(jìn)行處理，將會(huì )是對稀貴材料的較大浪費；同時(shí)，靶材從原材料到加工成成品，成材率一般只有40%-80%，大量的余料和殘屑需要更新循環(huán)利用。對于貨品靶材，由于材料價(jià)格昂貴，迫切需要對加工過(guò)程的余料殘屑的提純再利用及對殘進(jìn)行回收加工增值服務(wù)，有效增加材料利用效率和節約資源。對于貨品余料殘屑及殘的處理可為機械物理法回收和化學(xué)精煉提純回收。機械物理法可應用于單質(zhì)金屬殘靶及加工廢料。通過(guò)機械切削對單質(zhì)殘表面進(jìn)行處理，然后采用酸洗去除表面殘留雜質(zhì)的方法對殘祀回收再利用。

目前國內光伏電池主要以硅片涂覆型太陽(yáng)能電池為主。薄膜電池以及HIT占比較低，但是從目前的發(fā)展趨勢來(lái)看。未來(lái)HIT和薄膜電池增長(cháng)潛力很大。大部分國家光伏產(chǎn)業(yè)對金屬鉬的使用量約為6%，包括鉬粉、鉬化工產(chǎn)品以及各類(lèi)鉬制品。鉬制品主要用于濺射靶材FPD和濺射靶材PV。光伏太陽(yáng)能電池可以分為晶體硅太陽(yáng)能電池和薄膜太陽(yáng)能電池。光伏領(lǐng)域對靶材的使用主要是薄膜電池和HIT光伏電池。其中光伏薄膜電池用靶材主要為方形板狀，純度要求一般在99.99％（4N）以上，僅次于半導體用靶材。等優(yōu)點(diǎn),是目前有潛力的太陽(yáng)能電池材料之一。目前制備薄膜電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶（氧化鋁鋅）等，HIT電池主要使用ITO靶材作為其透明導電薄膜。

? ? ? 科技日報：ITO靶材屬于35項卡脖子技術(shù)之一。UVTM掌握濺射靶材生產(chǎn)的核心技術(shù)以后，實(shí)施極其嚴格的保密措施，限制技術(shù)擴散，目前制備太陽(yáng)能電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等在國內處于****水平。在中國光伏產(chǎn)業(yè)迅猛發(fā)展的前提下，作為薄膜太陽(yáng)能電池上游的太陽(yáng)能電池靶材市場(chǎng)規模也會(huì )保持高速發(fā)展。平板顯示器不斷向大尺寸方向發(fā)展，平板顯示器的出貨面積逐年加大；單個(gè)硬盤(pán)容量的逐年增長(cháng)，推動(dòng)了硬盤(pán)年銷(xiāo)售總容量持續增長(cháng)。國內大的半導體芯片用濺射靶材生產(chǎn)商，主要產(chǎn)品為各種高純?yōu)R射靶材，鉭靶、鎢鈦靶、LCD用碳纖維支撐等。高純度濺射靶材主要應用于電子元器件制造的物理-氣相沉積工藝。高純鋁及鋁合金是目前使用廣泛的導電層薄膜材料之一。磁控濺射靶性?xún)r(jià)比。

? ? ? 根據中國濺射靶材行業(yè)市場(chǎng)數據顯示：靶材在半導體材料中占比約為2.5-3%。上海和廣州是全國經(jīng)濟中心城市，是國際的港口城市，也是長(cháng)三角的****城市。這里人才匯集、資源匯聚，對于長(cháng)三角乃至于全國的發(fā)展都有重要的帶領(lǐng)和示范作用。由于半導體濺射靶材市場(chǎng)與晶圓產(chǎn)量存在直接關(guān)系，以中國大陸晶圓廠(chǎng)產(chǎn)能占大部分國家比例為15%計算。2018年中國半導體濺射靶材市場(chǎng)約1.2億美元，隨著(zhù)晶圓廠(chǎng)產(chǎn)能向中國轉移，半導體用靶材市場(chǎng)將達到1.5億美元。同比增長(cháng)25%。日本日礦金屬、東曹公司，美國霍尼韋爾、普萊克斯公司。隨著(zhù)濺射靶材朝著(zhù)更高純度、更大尺寸的方向發(fā)展。不斷進(jìn)行研發(fā)創(chuàng )新。靶材產(chǎn)品包括鋁及其合金靶材、鈦靶、銅靶、鉭靶等。尤特新材料（UVTM）是國家高新技術(shù)企業(yè)，公司成立于二00三年，專(zhuān)業(yè)從事信息、鍍膜、太陽(yáng)能材料的科研與生產(chǎn)。公司從德國、日本、引進(jìn)先進(jìn)的生產(chǎn)、檢測設備和專(zhuān)業(yè)人才。目前，靶材的國產(chǎn)化進(jìn)程面臨著(zhù)高等技術(shù)封鎖難題。且技術(shù)難以實(shí)現系統打破，過(guò)程還需要多個(gè)學(xué)科的知識和經(jīng)驗的同時(shí)積累，產(chǎn)業(yè)需要協(xié)同發(fā)展。鍍膜靶材是通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類(lèi)型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡(jiǎn)單說(shuō)的話(huà)，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料。濺射：即集成電路制造過(guò)程中要反復用到的工藝；fe。

? ? ? low-e玻璃在玻璃界的影響非常巨大，行業(yè)內甚至流傳“21世紀是low-e玻璃的世界”的說(shuō)法。它具有良好的采光性，同時(shí)沒(méi)有“光污染”，由于其具備良好的隔熱和防紫外線(xiàn)功能，是真實(shí)意義上的綠色、節能、環(huán)保玻璃建材。low-e玻璃是鍍膜玻璃的一種，其表面是有電介質(zhì)和金屬為主構成的金屬膜層。low-e玻璃本質(zhì)是玻璃表面附著(zhù)一層透明的金屬膜層，對可見(jiàn)光具有良好的透光性，對紅外線(xiàn)和紫外線(xiàn)具有很高的反射性。low-e玻璃具有兩個(gè)顯著(zhù)特點(diǎn)：（1）極低的表面輻射率；（2）非常高的遠紅外（熱輻射）反射率。從技術(shù)原理上講，即可阻擋玻璃吸熱升溫后以輻射形式從膜面向外散熱，也可直接反射遠紅外熱輻射。low-e玻璃的以上兩個(gè)特性與中空玻璃對熱的對流傳導的阻隔作用相配合，便構成了U值極低的Low-E中空玻璃。它可阻隔熱能從熱的一端向冷的一端傳遞。即冬季阻擋室內的熱量瀉向室外，夏季阻擋室外熱輻射進(jìn)入室內。

? ? ? 使用電弧噴涂工藝制備靶材，在預處理后的基體管上噴涂厚度為0.2mm的鎳鋁合金打底層。噴涂參數為:電壓29V，電流150A，送絲速度llmv，壓縮空氣壓力0.5Mpa。[0034]使用掃描電子顯微鏡、金相顯微鏡分析、高精度電子秤、互感耦合等離子質(zhì)譜儀(ICP)分析靶材性能，本實(shí)施例制備的鋁鈧靶材厚度為5mm，相對密度為98%，孔隙率(1.9%，平均晶粒尺寸

廣州市尤特新材料有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“尤特”），成立于2003年，位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬(wàn)平方米。尤特是一家專(zhuān)注于時(shí)尚消費電子產(chǎn)業(yè)、節能綠色環(huán)保產(chǎn)業(yè)、新材料新技術(shù)開(kāi)發(fā)和應用的重要高新技術(shù)企業(yè)。尤特以生產(chǎn)信息存儲記錄材料為起點(diǎn)，經(jīng)過(guò)10多年的開(kāi)拓與發(fā)展，產(chǎn)業(yè)技術(shù)不斷迭代與升級，尤特的技術(shù)及應用涉獵范圍逐步擴大，其中主要包括：真空鍍膜靶材；環(huán)保（UV/水性）材料；觸控顯示材料；印刷技術(shù)及材料；信息存儲材料、導電散熱材料等。尤特一直倡導“新材料、促環(huán)保、美生活”企業(yè)使命。尤特遵循科學(xué)體系管理，先后通過(guò)《質(zhì)量管理體系》、《環(huán)境管理體系》、《職業(yè)健康與安全管理體系》認證并有效運行，產(chǎn)品符合全部環(huán)境及安全標準；獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認證等。尤特重視產(chǎn)品研發(fā)及技術(shù)創(chuàng )新，先后與"武漢大學(xué)"、"華南理工大學(xué)"、"中南大學(xué)"等高校、研究所建立"產(chǎn)學(xué)研"合作機制，并承擔多項省市立項的科研項目，公司目前已擁有幾十項自主研發(fā)新興材料及工藝的知識產(chǎn)權，是廣州市扶持科技型要點(diǎn)培育上市企業(yè)。尤特先后獲得相關(guān)機構的授予多個(gè)榮譽(yù)：如“國家生產(chǎn)力促進(jìn)獎、國家有名商標、廣東省守合同重信用企業(yè)、廣東省雇主責任示范企業(yè)、廣州市安全生產(chǎn)標準化達標企業(yè)、廣州市工程技術(shù)研發(fā)中心、廣州科技小巨人企業(yè)、地方納稅企業(yè)”等榮譽(yù)。尤特全體同仁秉承“創(chuàng )造價(jià)值，分享價(jià)值“的核心價(jià)值觀(guān)，借鑒以往成功管理運營(yíng)經(jīng)驗，持續深挖磁控濺射鍍膜材料下游應用市場(chǎng)，不斷拓寬市場(chǎng)應用領(lǐng)域，做優(yōu)做強鍍膜材料產(chǎn)業(yè),將公司打造為--磁控濺射靶材行業(yè)者。

主營(yíng)產(chǎn)品：濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨 公司成立年份：2003
公司網(wǎng)址：http://UVTMCOM.glass.com.cn

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