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銅背板綁定,綁定銅背板,靶材綁定公司,靶材綁定價(jià)格
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1000.00元/套
供應標題:銅背板綁定,綁定銅背板,靶材綁定公司,靶材綁定價(jià)格
價(jià)格:電儀
發(fā)布公司:廣州市尤特新材料有限公司
供貨總量:9999
聯(lián)系人:楊永添
發(fā)貨地點(diǎn):廣東 廣州 花都區
發(fā)布時(shí)間:2024年08月29日
有效期至:2025年09月12日
在線(xiàn)詢(xún)盤(pán):在線(xiàn)詢(xún)盤(pán)
產(chǎn)品綜合信息質(zhì)量:未計算
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基本信息
綁定式磁控濺射旋轉靶材,包括背管(I)和固定套結在背管(I)外壁的靶管(3),其特征在于:所述固定套結在背管(I)外壁的靶管(3)為至少一個(gè),所述背管(I)外壁設有開(kāi)口槽(2),靶管(3)通過(guò)填充在開(kāi)口槽(2)內的無(wú)銦釬焊材料旋轉加熱焊接固定在背管(I)夕卜壁。2.根據權利要求1所述綁定式磁控濺射旋轉靶材,其特征在于:所述開(kāi)口槽(2)為半圓形螺旋槽。3.根據權利要求2所述綁定式磁控濺射旋轉靶材,其特征在于:所述半圓形螺旋槽螺距是槽深的一半。4.根據權利要求1所述綁定式磁控濺射旋轉靶材,其特征在于:所述靶管(3)內壁與背管(I)外壁間隙為0.2—0.4mm。5.根據權利要求1所述綁定式磁控濺射旋轉靶材,其特征在于:所述靶管(3)為兩個(gè)以上時(shí),革E管⑶與靶管(3)之間間隙小于0.5mm。6.根據權利要求5所述綁定式磁控濺射旋轉靶材,其特征在于:所述靶管(3)為兩個(gè)以上時(shí),靶管(3)與靶管(3)之間使用硅橡膠墊(4)和高溫膠帶密封。7.根據權利要求1-6中任一所述綁定式磁控濺射旋轉靶材,其特征在于:所述靶管(3)為三個(gè)以上時(shí),設置在兩端部的兩個(gè)靶管(3)比中間靶管(3)厚30 % — 50 %。廣面。
濺射技術(shù),濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之,它利用離子源產(chǎn)生的離子,在真空中經(jīng)過(guò)加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換,使固體表面的原子離開(kāi)固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是制備濺射法沉積薄膜的原材料,稱(chēng)為濺射靶材。各種類(lèi)型的濺射薄膜材料無(wú)論在半導體集成電路、太陽(yáng)能光伏、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應用UVTM可提供硅材料等,硅靶材和晶圓的直徑可達18英寸。目前,硅晶圓主流尺寸為8英寸、12英寸。UVTM的硅靶材作為應用于手機玻璃蓋板的重要靶材產(chǎn)品,已獲得多家手機玻璃蓋板生產(chǎn)客戶(hù)的認可,并已實(shí)現批量供貨。ito。
半導體芯片行業(yè)用的金屬濺射靶材,主要種類(lèi)包括:銅、鉭、鋁、鈦、鈷和鎢等高純?yōu)R射靶材,以及鎳鉑、鎢鈦等合金類(lèi)的濺射靶材。銅靶和鉭靶通常配合起來(lái)使用。目前晶圓的制造正朝著(zhù)更小的制程方向發(fā)展,銅導線(xiàn)工藝的應用量在逐步加大,因此,銅和鉭靶材的需求將有望持續增長(cháng)。鋁靶和鈦靶通常配合起來(lái)使用。目前,在汽車(chē)電子芯片等需要110nm以上技術(shù)節點(diǎn)來(lái)保證其穩定性和抗干擾性的領(lǐng)域,仍需大量使用鋁、鈦靶材。高純貨品靶材被譽(yù)為半導體芯片材料的強者,半導體產(chǎn)業(yè)對濺射靶材和濺射薄膜的品質(zhì)要求非常高,隨著(zhù)更大尺寸的硅晶圓片制造出來(lái),相應地要求濺射靶材也朝著(zhù)大尺寸、高純度的方向發(fā)展,同時(shí)也對濺射靶材的晶粒晶向控制提出了更高的要求。
由于HJT電池的工藝要求較高,因此ITO濺射靶材的比例和純度非常重要。什么是高純?yōu)R射靶材?就是利用各種高純單質(zhì)貨品及新型化合物制得的功能薄膜為(簡(jiǎn)單理解就是純度更高),主要用于對材料純度、穩定性要求更高的領(lǐng)域,像集成電路、平板顯示器、太陽(yáng)能電池、記錄媒體、智能玻璃等行業(yè)。在濺射靶材應用領(lǐng)域中,半導體芯片對濺射靶材的要求是比較高的,要求靶材純度很高,一般在5N(99.999%)以上。日本在電子行業(yè)的上游材料領(lǐng)域占據了優(yōu)勢,在硅晶圓材料、光罩、靶材等重要的細分子領(lǐng)域的市場(chǎng)份額都超過(guò)50%。高純靶材用量較大的行業(yè)主要有半導體集成電路、平板顯示器、太陽(yáng)能電池、磁記錄介質(zhì)、光學(xué)器件等。AZO靶材是其中一種制造高科技節能玻璃鍍膜材料。銀銅合金靶材供應。洛純靶材。
目前,大部分國家的靶材制造行業(yè),特別是高純度的靶材市場(chǎng),呈現寡頭壟斷格局,主要由幾家美日大企業(yè)把持,如日本的三井礦業(yè)、日礦金屬、日本東曹、住友化學(xué)、日本愛(ài)發(fā)科,以及美國霍尼韋爾、普萊克斯等。日礦金屬是大部分國家大的靶材供應商,靶材銷(xiāo)售額約占大部分國家市場(chǎng)的30%,霍尼韋爾在并購JohnsonMattey、整合高純鋁、鈦等原材料生產(chǎn)廠(chǎng)后,占到大部分國家市約20%的份額,此外,東曹和普萊克斯分別占20%和10%。氧化鋅是一種透明導電膜材料。以ZnO粉末和Al_2O_3粉末為主要原料,以常壓、空氣氣氛燒結為手段制備透明導電膜用ZnO陶瓷靶材。研究結果表明:粉末成型壓力為3MP時(shí),靶材電學(xué)性能佳;當Al:Zn原子比為4.100時(shí),ZnO的電阻率低,達4.1×10~(-3)Ω·㎝,當Al摻雜量超過(guò)某一數值后,Al不再以替位離子形式存在,而是與周?chē)腪n、O原子共同作用,生成鋅鋁尖晶石相,從而導致材料的電阻率升高。噴涂靶話(huà)。
廣州市尤特新材料有限公司基本信息
廣州市尤特新材料有限公司(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“尤特”),成立于2003年,位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬(wàn)平方米。尤特是一家專(zhuān)注于時(shí)尚消費電子產(chǎn)業(yè)、節能綠色環(huán)保產(chǎn)業(yè)、新材料新技術(shù)開(kāi)發(fā)和應用的重要高新技術(shù)企業(yè)。尤特以生產(chǎn)信息存儲記錄材料為起點(diǎn),經(jīng)過(guò)10多年的開(kāi)拓與發(fā)展,產(chǎn)業(yè)技術(shù)不斷迭代與升級,尤特的技術(shù)及應用涉獵范圍逐步擴大,其中主要包括:真空鍍膜靶材;環(huán)保(UV/水性)材料;觸控顯示材料;印刷技術(shù)及材料;信息存儲材料、導電散熱材料等。尤特一直倡導“新材料、促環(huán)保、美生活”企業(yè)使命。尤特遵循科學(xué)體系管理,先后通過(guò)《質(zhì)量管理體系》、《環(huán)境管理體系》、《職業(yè)健康與安全管理體系》認證并有效運行,產(chǎn)品符合全部環(huán)境及安全標準;獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認證等。尤特重視產(chǎn)品研發(fā)及技術(shù)創(chuàng )新,先后與"武漢大學(xué)"、"華南理工大學(xué)"、"中南大學(xué)"等高校、研究所建立"產(chǎn)學(xué)研"合作機制,并承擔多項省市立項的科研項目,公司目前已擁有幾十項自主研發(fā)新興材料及工藝的知識產(chǎn)權,是廣州市扶持科技型要點(diǎn)培育上市企業(yè)。尤特先后獲得相關(guān)機構的授予多個(gè)榮譽(yù):如“國家生產(chǎn)力促進(jìn)獎、國家有名商標、廣東省守合同重信用企業(yè)、廣東省雇主責任示范企業(yè)、廣州市安全生產(chǎn)標準化達標企業(yè)、廣州市工程技術(shù)研發(fā)中心、廣州科技小巨人企業(yè)、地方納稅企業(yè)”等榮譽(yù)。尤特全體同仁秉承“創(chuàng )造價(jià)值,分享價(jià)值“的核心價(jià)值觀(guān),借鑒以往成功管理運營(yíng)經(jīng)驗,持續深挖磁控濺射鍍膜材料下游應用市場(chǎng),不斷拓寬市場(chǎng)應用領(lǐng)域,做優(yōu)做強鍍膜材料產(chǎn)業(yè),將公司打造為--磁控濺射靶材行業(yè)者。
員工人數:200-500人 廠(chǎng)房面積: 年營(yíng)業(yè)額:
年進(jìn)口額: 年出口額: 主要市場(chǎng):
客戶(hù)群:
公司名稱(chēng):廣州市尤特新材料有限公司
注冊資本:人民幣2000萬(wàn)元/年-人民幣5000萬(wàn)元/年 公司網(wǎng)址:http://UVTMCOM.glass.com.cn產(chǎn)品屬性:
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