異質(zhì)結的工藝制程共分制絨清洗、非晶硅薄膜沉積、TCO制備、電極制備四個(gè)步驟，、RPD/PVD以及絲網(wǎng)印刷機。異質(zhì)結的設備廠(chǎng)商主要為國外企業(yè)，關(guān)鍵設備PECVD更是掌握在梅耶博格、應材等企業(yè)手中。2016年以來(lái)，理想、鈞石、捷佳瑋創(chuàng )、邁為、金辰股份等企業(yè)在異質(zhì)結設備制造上不斷取得打破，國產(chǎn)異質(zhì)結設備逐步得到完善。光伏薄膜電池用靶材主要為方形板狀，純度要求一般在99.99%（4N）以上，光伏領(lǐng)域對靶材的使用主要是薄膜電池和HIT光伏電池。太陽(yáng)能電池主要包括晶硅電池和薄膜電池，環(huán)節以及HIT（異質(zhì)結）電池的導體層。電池，其中硅片涂覆型太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)不使用濺射靶材。德純金屬靶材。

熱噴涂旋轉靶材是把涂層材料直接噴涂于襯管上,不需要另外的粘結工序。磁控濺射靶材主要應用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高等裝飾用品等行業(yè)。透磁率可以作為評估磁性靶材透磁性能的有效指標，其方法還沒(méi)有相應的行業(yè)標準，很大程度上制約了國內磁性濺射靶材的研發(fā)、制作及工業(yè)化生產(chǎn)。磁控靶的實(shí)際的承載功率除了與濺射工藝、薄膜的質(zhì)量要求等因數有關(guān)外，主要與靶的冷卻狀況和散熱條件密切相關(guān)。磁控靶按其冷卻散熱方式的不同，分為“靶材直接水冷卻”和“靶材間接水冷卻”兩種�？紤]到濺射靶長(cháng)期使用老化后，其散熱條件變差;兼顧各種不同靶材材質(zhì)的散熱系數的不同，磁控靶的使用時(shí)的承載功率。洛純金屬靶材。

HIT電池主要使用ITO靶材作為其透明導電薄膜。HIT電池是在晶體硅上沉積非晶硅薄膜，其結構是以N型單晶硅片作襯底，正反面依次沉積本征非晶硅薄膜、摻雜非晶硅薄膜、金屬氧化物導電層TCO，再通過(guò)絲網(wǎng)印刷制作正負電極，從而導出電流。比較成熟，成本占比不高，大約5%左右。HIT 薄膜電池帶動(dòng)光伏靶材需求。目前國內光伏電池主要以硅片涂覆型太陽(yáng)能電池為主，薄膜電池以及HIT占比較低，但是未來(lái)增長(cháng)潛力較大。2018年大部分國家薄膜電池量保持11%增長(cháng)，預計未來(lái)維持10%以上；HIT有望保持高速增長(cháng)，隨著(zhù)國內投資熱情高漲，產(chǎn)能有望從目前2GW增長(cháng)至2024年的100GW以上。綜合測算，預計我國太陽(yáng)能電池用靶材市場(chǎng)規模持續擴大。CAGR保持在15%以上，到2024年，我國太陽(yáng)能電池用靶材行業(yè)市場(chǎng)規模有望打破70億元。

如在A(yíng)BS料、ABS PC料、PC料，家用電器等產(chǎn)品上都有著(zhù)不錯的使用。一起因其工藝流程雜亂、環(huán)境、設備要求高，單價(jià)比水電鍍貴重.現對其工藝流程作扼要介紹：產(chǎn)品外表清潔--〉去靜電--〉噴底漆--〉烘烤底漆--〉真空鍍膜--〉噴面漆--〉烘烤面漆--〉包裝。而真空電鍍的做法也是適當雜亂，一般是在資料上先噴一層底漆，再做電鍍．因為資料是塑料件。磁控濺射靶材主要應用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高等裝飾用品等行業(yè)。透磁率可以作為評估磁性靶材透磁性能的有效指標，其方法還沒(méi)有相應的行業(yè)標準，很大程度上制約了國內磁性濺射靶材的研發(fā)、制作及工業(yè)化生產(chǎn)。

使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱(chēng)為濺射靶材。相比PVD的另一種工藝——真空鍍膜，濺射鍍膜工藝可重復性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結合力強等優(yōu)點(diǎn)，已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)。真空電鍍我們應該都有必定的了解，它主要包含真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類(lèi)型，它們都是采用在真空條件下，經(jīng)過(guò)蒸餾或濺射等方法在塑件外表堆積各種金屬和非金屬薄膜，經(jīng)過(guò)這樣的方法能夠得到十分薄的外表鍍層，一起具有速度快附著(zhù)力好的杰出長(cháng)處。正是因為這些長(cháng)處，所以真空電鍍設備的使用十分廣泛。

半導體材料主要分為晶圓制造材料和封裝材料，其中晶圓制造材料包括硅片（37%）、光刻膠、光刻膠配套試劑、濕電子化學(xué)品、電子氣體、P拋光材料、以及靶材等；芯片封裝材料包括封裝基板（39%）、引線(xiàn)框架、樹(shù)脂、鍵合絲、錫球、以及電鍍液等。觸控屏幕的三大材料：玻璃基板、PET基材和ITO靶材，玻璃基本的生產(chǎn)主要掌握在美日韓三國手中，基材和靶材，則日本獨斷。其中的ITO靶材，制造的原料I是我國擁有的關(guān)鍵稀土銦，但由于不會(huì )加工，高等ITO靶材還是要從JapanEner、東素、三井礦業(yè)等日采購。顯示面板的上游更是日本企業(yè)壟斷。旋轉靶材。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術(shù)，也是PVD的一種。它通過(guò)在PVD設備中用離子對目標物進(jìn)行轟擊。

廣州市尤特新材料有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“尤特”），成立于2003年，位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬(wàn)平方米。尤特是一家專(zhuān)注于時(shí)尚消費電子產(chǎn)業(yè)、節能綠色環(huán)保產(chǎn)業(yè)、新材料新技術(shù)開(kāi)發(fā)和應用的重要高新技術(shù)企業(yè)。尤特以生產(chǎn)信息存儲記錄材料為起點(diǎn)，經(jīng)過(guò)10多年的開(kāi)拓與發(fā)展，產(chǎn)業(yè)技術(shù)不斷迭代與升級，尤特的技術(shù)及應用涉獵范圍逐步擴大，其中主要包括：真空鍍膜靶材；環(huán)保（UV/水性）材料；觸控顯示材料；印刷技術(shù)及材料；信息存儲材料、導電散熱材料等。尤特一直倡導“新材料、促環(huán)保、美生活”企業(yè)使命。尤特遵循科學(xué)體系管理，先后通過(guò)《質(zhì)量管理體系》、《環(huán)境管理體系》、《職業(yè)健康與安全管理體系》認證并有效運行，產(chǎn)品符合全部環(huán)境及安全標準；獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認證等。尤特重視產(chǎn)品研發(fā)及技術(shù)創(chuàng )新，先后與"武漢大學(xué)"、"華南理工大學(xué)"、"中南大學(xué)"等高校、研究所建立"產(chǎn)學(xué)研"合作機制，并承擔多項省市立項的科研項目，公司目前已擁有幾十項自主研發(fā)新興材料及工藝的知識產(chǎn)權，是廣州市扶持科技型要點(diǎn)培育上市企業(yè)。尤特先后獲得相關(guān)機構的授予多個(gè)榮譽(yù)：如“國家生產(chǎn)力促進(jìn)獎、國家有名商標、廣東省守合同重信用企業(yè)、廣東省雇主責任示范企業(yè)、廣州市安全生產(chǎn)標準化達標企業(yè)、廣州市工程技術(shù)研發(fā)中心、廣州科技小巨人企業(yè)、地方納稅企業(yè)”等榮譽(yù)。尤特全體同仁秉承“創(chuàng )造價(jià)值，分享價(jià)值“的核心價(jià)值觀(guān)，借鑒以往成功管理運營(yíng)經(jīng)驗，持續深挖磁控濺射鍍膜材料下游應用市場(chǎng)，不斷拓寬市場(chǎng)應用領(lǐng)域，做優(yōu)做強鍍膜材料產(chǎn)業(yè),將公司打造為--磁控濺射靶材行業(yè)者。

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