光伏領(lǐng)域對靶材的使用主要是薄膜電池和HIT光伏電池。太陽(yáng)能電池主要包括晶硅電池和薄膜電池，靶材主要應用于薄膜太陽(yáng)能電池的背電極環(huán)節以及HIT（異質(zhì)結）電池的導體層。晶體硅太陽(yáng)能電池按照生產(chǎn)工藝不同可分為硅片涂覆型太陽(yáng)能電池以及PVD工藝高率硅片太陽(yáng)能電池，其中硅片涂覆型太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)不使用濺射靶材，目前靶材主要用于太陽(yáng)能薄膜電池領(lǐng)域，而HIT作為PERC（鈍化發(fā)射極及背局域接觸電池）未來(lái)的替代技術(shù)，有望實(shí)現大規模量產(chǎn)，從而帶動(dòng)靶材需求。光伏薄膜電池用靶材主要為方形板狀，純度要求一般在99.99%（4N）以上，僅次于半導體用靶材。目前制備薄膜電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等。其中鋁靶、銅靶用于導電層薄膜，鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜，ITO靶、AZO靶用于透明導電層薄膜。磁控濺射靶材。

靶的晶粒尺寸越細小，濺鍍薄膜的厚度分布越均勻，濺射速率越快。正因為靶材在性能上有上述諸多特殊要求，導致其制備工藝較為復雜。靶材的制備工藝目前制備靶材的方法主要有鑄造法和粉末冶金法。鑄造法；將一定成分配比的合金原料熔煉，再將合金熔液澆注于模具中，形成鑄錠，較后經(jīng)機械加工制成靶材。鑄造法在真空中熔煉、鑄造。常用的熔煉方法有真空感應熔煉、真空電弧熔煉和真空電子轟擊熔煉等。其優(yōu)點(diǎn)是靶材雜質(zhì)含量(特別是氣體雜質(zhì)含量)低，密度高，可大型化；缺點(diǎn)是對熔點(diǎn)和密度相差較大的兩種或兩種以上金屬，普通熔煉法難以獲得成分均勻的合金靶材。粉末冶金法；將一定成分配比的合金原料熔煉，澆注成鑄錠后再粉碎，將粉碎形成的粉末經(jīng)等靜壓成形。再高溫燒結，較終形成靶材。粉末冶金法的優(yōu)點(diǎn)是靶材成分均勻；缺點(diǎn)是密度低，雜質(zhì)含量高等。

ITO靶材成形的工藝有冷靜壓成。ITO/Si異質(zhì)結光電器件與p-n結光電池比較具有工藝簡(jiǎn)單,轉換效率高等特點(diǎn)。在靶材制造的過(guò)程中，需要經(jīng)歷粉末冶煉、粉末混合、壓制成型、氣氛燒結、塑性加工、熱處理、超聲探傷、機械加工、水切割、機械加工、金屬化、綁定、超聲、超聲清洗、檢驗出貨。ITO有著(zhù)多種功用,首先ITO為高帶隙材料,可用作光電池的光入射窗口,又可作為收集光電流的電極,在基底半導體Si上形成勢壘作為SIS結的一層以及抗反射層。銦是中國在儲量上占據優(yōu)勢的資源。磁控濺射一般分為二種：直流濺射和射頻濺射。其中直流濺射設備原理簡(jiǎn)單，在濺射金屬時(shí)，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛。除可濺射導電材料外。也可濺射非導電的材料，同時(shí)還可進(jìn)行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。

現在很多廠(chǎng)家對于真空鍍膜設備的維護保養都不是很清楚。真空鍍膜設備每完成200個(gè)鍍膜程序以上，應清潔工作室一次。方法是：用****(NaOH)飽和溶液反復擦洗真空室內壁，(注意人體外表不可以直接接觸溶液，以免灼傷)目的是使鍍上去的膜料鋁(AL)與NaOH發(fā)生反應，反應后膜層脫落，并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內的污垢。當粗抽泵(滑閥泵，旋片泵)連續工作一個(gè)月(雨季減半)，需更變新油。方法是：擰開(kāi)放油螺栓，放掉舊油，再將泵啟動(dòng)數秒，使泵內的舊油完全排放出來(lái)。擰回放油螺栓，加入新油至額定量(油視鏡觀(guān)察)。連續使用半年以上，換油時(shí)應將油蓋打開(kāi)，用布擦干凈箱內污垢。擴散泵連續使用6個(gè)月以上。

電子器件靶材的原材料有鎳鉻合金、鉻硅合金等，薄膜電容。靶材的方法很多。大體上，可以按材質(zhì)、按形狀、按應用領(lǐng)域。按形狀可分為長(cháng)靶、方靶、圓靶。金屬靶材（純金屬鋁、鈦、銅、鉭等）、合金靶材（鎳鉻合金、鎳鈷合金等）、陶瓷化合物靶材（氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等）。按應用領(lǐng)域靶材可分為半導體芯片靶材、平板顯示靶材、太陽(yáng)能電池靶材、信息存儲靶材、工具改性靶材、電子器件靶材、其他靶材。稀土領(lǐng)域，UVTM是全國范圍內稀土技術(shù)能力比較一體的后起之秀。尤特新材具備從稀土選礦、稀土分離，稀土金屬制備的全流程原創(chuàng )技術(shù)�，F在大部分國家范圍內70%的稀土選冶都源于我們的技術(shù)。目前尤特新材是大部分國家能生產(chǎn)多種非常高純稀土金屬的企業(yè)。材料技術(shù)也具備國內****水平。

靶材綁定及襯管質(zhì)量的影響為了避免些韌性較差的金屬、合金或氧化物等易裂材料在使用過(guò)程中破裂,在制備平面靶時(shí)通常會(huì )把靶材綁定在銅背板上,旋轉靶材則會(huì )綁定在不銹鋼襯管上,常用的綁定材料為金屬銦或其它金屬物質(zhì)。6.腔室條件對靶材成膜影響業(yè)玻璃除上述靶材郾身存在的問(wèn)題外,腔體未能清潔干凈,或長(cháng)生產(chǎn)后腔室表面吸附了較多的雜質(zhì),都在生產(chǎn)過(guò)程中會(huì )出現不導電顆粒附著(zhù)在靶材表面。通過(guò)殘靶再利用，提高磁控濺射鍍膜用靶材使用率的方法，降低了生產(chǎn)成本，減少了資源浪費，提高磁控濺射鍍膜用靶材使用率。

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