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2400.00元/套
供應標題:高純金屬靶材,多元合金靶材,陶瓷濺射靶材,金屬膜電阻器用靶材
價(jià)格:電儀
發(fā)布公司:廣州市尤特新材料有限公司
供貨總量:9999
聯(lián)系人:楊永添
發(fā)貨地點(diǎn):廣東 廣州 花都區
發(fā)布時(shí)間:2024年08月16日
有效期至:2025年09月13日
在線(xiàn)詢(xún)盤(pán):在線(xiàn)詢(xún)盤(pán)
產(chǎn)品綜合信息質(zhì)量:未計算
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ITO靶材市場(chǎng)應用狀況大部分國家2005 年需求563t,2007 年869t,2009 年1300t,2010 年1445t,2012 年將近2000t,每年以平均15%的增長(cháng)率遞增。其中日本日礦材料公司占市場(chǎng)50%,日本三井礦業(yè)占25%,東曹占15%,科寧占10%,國內靶材公司占據數額幾乎可以忽略不計。
靶材主要應用在平板顯示、記錄媒體、光伏電池、半導體等領(lǐng)域。貨品的深加工技術(shù)朝高純化、精細化、的方向發(fā)展。由于鉭的表面能形成致密穩定、介電強度高的無(wú)定形氧化膜,易于準確方便地控制電容器的陽(yáng)極氧化工藝,面積,高低溫特性好、使用壽命長(cháng)、綜合性能不錯、其他電容器難以與之媲美,國外對高純金屬材料的開(kāi)發(fā)研究較早,英國和俄羅斯等國家意志以來(lái)都十分重視高純金屬材料的研制、生產(chǎn)和應用。其生產(chǎn)的高純金屬材料品種齊全、質(zhì)量好、產(chǎn)量大,產(chǎn)品純度高可達6N以上。貨品因其優(yōu)良的理化性能和高可靠性,成為保證半導體器件性能和發(fā)展半導體技術(shù)必不可少及不可替代的材料。此外,玫瑰金靶材、1N14靶材、2N18靶材等金銅合金靶材。在高等裝飾鍍膜中也有著(zhù)廣泛的應用。
真空設備檢修三要素的方案:1首先判斷出起主要作用的是什么因素,找到問(wèn)題的所在,從而采取相應的措施加以解決。2真空測量真空測量是指用特定的儀器、對某一真空設備空間內真空度高低的量度。因此真空測量?jì)x表好壞直接影響設備正常運行。真空計的種類(lèi)很多,大體上可分真空計和相對真空計兩大類(lèi)。凡通過(guò)測定物理參數直接計出氣體壓強的真空計稱(chēng)為真空計。通過(guò)測量與壓強有關(guān)物理量,并進(jìn)行計算得到壓強值的真空計稱(chēng)為相對真空計。真空計精度較高,一般作為標準用,在實(shí)際生產(chǎn)中,大都使用相對真空計。
磁控濺射鍍膜靶材:金屬濺射鍍膜靶材,合金濺射鍍膜靶材,陶瓷濺射鍍膜靶材,硼化物陶瓷濺射靶材,碳化物陶瓷濺射靶材,氟化物陶瓷濺射靶材 ,氮化物陶瓷濺射靶材 ,氧化物陶瓷靶材一氧化硅、SiO,二氧化鉿、HfO?,二硼化鉿,氯氧化鉿,二氧化鋯、ZrO2,二氧化鈦、TiO2,一氧化鈦、TiO,二氧化硅、SiO2,三氧化二鈦、Ti2O3,五氧化三鈦、Ti3O5,五氧化二鉭、Ta2O5,五氧化二鈮、Nb2O5,三氧化二鋁、Al2O3,三氧化二鈧、Sc2O3,三氧化二銦、In2O3,二鈦酸鐠、Pr(TiO3)2,二氧化鈰、CeO2,氧化鎂、MgO,三氧化鎢、WO3,氧化釤、Sm2O3,氧化釹、Nd2O3,氧化鉍、Bi2O3,氧化鐠、Pr6O11,氧化銻、2O3,氧化釩、V2O5,氧化鎳、NiO,氧化鋅、ZnO,氧化鐵、Fe2O3,氧化鉻、Cr2O3,氧化銅、CuO等。
鋁靶、銅靶用于導電層薄膜。在半導體芯片制造的金屬化工藝過(guò)程中,氧化鎢薄膜是一種被廣泛研究的功能材料。芯片行業(yè)擁有一條超長(cháng)的產(chǎn)業(yè)鏈。其整體可分為設計、制造、封裝、四大環(huán)節。除了在設計領(lǐng)域,華為海思擁有一定的打破能力,其他三個(gè)環(huán)節,尤其是在制造環(huán)節,國內廠(chǎng)商的能力仍有較大的提升空間。盡管全世界各大廠(chǎng)生產(chǎn)的材料幾乎都能99.99%的純度,但卻唯有日本廠(chǎng)商的材料能將純度達到99.999%。半導體材料主要分為晶圓制造材料和封裝材料,化學(xué)品、電子氣體、P拋光材料、以及靶材等;芯片封裝材料包括封裝基板(39%)、引線(xiàn)框架、樹(shù)脂、鍵合絲、錫球、以及電鍍液等。磷化銦靶材(InP),鉛靶材(PbAs),銦靶材(InAs)。
高純真空濺射靶材可分為:高純金屬靶材、多元合金靶材、陶瓷濺射靶材、金屬膜電阻器用靶材。高純金屬靶材:鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、硼靶 B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶Si、鉭靶Ta、鋅靶Zn、鎂勒 Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鎳靶Ni、銀靶Ag、不銹鋼靶材等……多元合金靶材;鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr鎳鋁靶Ni-A1、鎳釩靶Ni-V 鎳鐵靶Ni-Fe、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……半導體芯片行業(yè)是金屬濺射靶材的主要應用領(lǐng)域之一,是對靶材的成分、籌備和性能要求高的領(lǐng)域。
尤供用應的AZO靶材,出口多個(gè)國家,目前能
2024-07-14透明導電氧化物(TCO)薄膜因其導電性和透光
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