科技日報：ITO靶材屬于35項卡脖子技術(shù)之一。UVTM掌握濺射靶材生產(chǎn)的核心技術(shù)以后，實(shí)施極其嚴格的保密措施，限制技術(shù)擴散，目前制備太陽(yáng)能電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等在國內處于****水平。其中鋁靶、銅靶用于導電層薄膜，鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜，邦定：長(cháng)4米靶材的邦定，3米管靶材邦定，大面積平面銅背板，鈦背板的邦定，綁定率高，超聲波探傷儀檢測4米管靶材邦定大面積邦定技術(shù)銅背板鈦背板邦定高綁定率能邦定G10.5代線(xiàn)。產(chǎn)地：廣州。材質(zhì)：Ag、Cu晶粒度：100um產(chǎn)品用途：銀銅合金靶材主要用于真空濺射鍍膜。銀銅合金優(yōu)勢：有良好的導電性、流動(dòng)性和浸潤性、較好的機械性能、硬度高。耐磨性和抗熔焊性。

ITO靶材成形的工藝有冷靜壓成。ITO/Si異質(zhì)結光電器件與p-n結光電池比較具有工藝簡(jiǎn)單,轉換效率高等特點(diǎn)。在靶材制造的過(guò)程中，需要經(jīng)歷粉末冶煉、粉末混合、壓制成型、氣氛燒結、塑性加工、熱處理、超聲探傷、機械加工、水切割、機械加工、金屬化、綁定、超聲、超聲清洗、檢驗出貨。ITO有著(zhù)多種功用,首先ITO為高帶隙材料,可用作光電池的光入射窗口,又可作為收集光電流的電極,在基底半導體Si上形成勢壘作為SIS結的一層以及抗反射層。銦是中國在儲量上占據優(yōu)勢的資源。磁控濺射一般分為二種：直流濺射和射頻濺射。其中直流濺射設備原理簡(jiǎn)單，在濺射金屬時(shí)，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛。除可濺射導電材料外。也可濺射非導電的材料，同時(shí)還可進(jìn)行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。

高純鋁及鋁合金是目前使用廣泛的導電層薄膜材料之一。和超大規模集成電路芯片的制造對濺射靶材金屬純度的要求相比，太陽(yáng)能電池用鋁靶的金屬純度略低，99.995%（4N5）以上。目前制備薄膜電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等。鋁靶、銅靶用于導電層薄膜，鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜。光伏領(lǐng)域對靶材的使用主要是薄膜電池和HIT光伏電池。其中光伏薄膜電池用靶材主要為方形板狀，純度要求一般在99.99%（4N）以上，僅次于半導體用靶材。HJT量產(chǎn)的關(guān)鍵點(diǎn)在于PECVD。2019年海外應材和梅耶博格的PECVD價(jià)格接近5億元/GW，設備雖然成熟但價(jià)格太高，整線(xiàn)的設備投資達到7-8億元。對比海內外四大設備，海外設備較為成熟，但核心設備價(jià)格較高不具備量產(chǎn)經(jīng)濟性。

按開(kāi)關(guān)不同可分為：長(cháng)靶、方靶、圓靶。按應用領(lǐng)域不同可分為：半導體芯片靶材、平面顯示器靶材、太陽(yáng)能電池靶材、信息存儲靶材、工具改性靶材、電子器件靶材、其他靶材。濺射：即集成電路制造過(guò)程中要反復用到的工藝；靶材：就是濺射工藝中必不可少的重要原材料。那么，不同應用領(lǐng)域，對材料的選擇及性能要求也有一定差異，low-e玻璃具有可以阻止空氣由熱向冷傳遞的特性,其指標有：輻射率、可見(jiàn)光透射比、遮陽(yáng)系數、傳熱系數、耐磨性、耐酸堿性目前有兩種主要生產(chǎn)方法：在線(xiàn)高溫熱解沉積法和離線(xiàn)真空磁控濺射法，其產(chǎn)品分別叫在線(xiàn)low-e玻璃和離線(xiàn)low-e玻璃。鍍膜玻璃離不開(kāi)金屬靶材，濺射靶材的使用量及成本占行業(yè)中相當大的比重。

17年國內半導體增速24.81%。半導體靶材性能要求位居各類(lèi)應用前列。半導體行業(yè)所需濺射靶材主要用于晶圓制造材料和封裝材料。芯片制造對濺射靶材純度要求很高，通常需達99.9995%（5N5）甚至99.9999%（6N）以上。進(jìn)出口方面，產(chǎn)量方面，隨著(zhù)國內磁控濺射靶材技術(shù)的成熟和高純鋁生產(chǎn)技術(shù)的提高，我國靶材生產(chǎn)有相對的低成本優(yōu)勢。過(guò)去典型靶材種類(lèi)之一——高純鋁仍主要依賴(lài)****；但隨著(zhù)國內高純鋁的產(chǎn)量逐年增加，從年進(jìn)出口量的差距一直在縮小，2018年高純鋁出口量超過(guò)****量。2017大部分國家半導體產(chǎn)業(yè)超預期增速21.62%。從下游需求結構看，17年增長(cháng)主要源于半導體的主要應用是集成電路中的存儲器。

由于冷噴涂相對于熱噴涂顆粒以高速撞擊而產(chǎn)生強烈塑性變形形成涂層，而后續粒子的沖擊又對前期涂層產(chǎn)生致密化的作用，并且涂層沒(méi)有由熔融狀態(tài)冷卻的體積收縮過(guò)程，故靶材的孔隙率密度小高。靶材成分均勻無(wú)偏析：冷噴涂技術(shù)工藝沒(méi)有由熔融狀態(tài)冷卻的體積收縮過(guò)程可避開(kāi)高溫對涂層的偏析影響。尤特新材料已經(jīng)是中國大專(zhuān)業(yè)的信息材料（光儲存）耗材生產(chǎn)廠(chǎng)家，公司主要產(chǎn)品有：濺鍍靶材、UV油墨、MASK，產(chǎn)品廣泛應用于光儲存、low-e玻璃、TCO導電玻璃、半導體、電子、印刷等行業(yè).尤特新材料有限公司先后通過(guò)ISO2008質(zhì)量體系和ISO2004環(huán)境體系認證，以及SONY認證，產(chǎn)品符合各國環(huán)境及安全標準。半導體靶材：靶材應用的戰略高地17-20年大部分國家半導體增速有望超預期。

主營(yíng)行業(yè)：化工原料、輔料//玻璃油墨 化工原料、輔料//其它 公司注冊地址：廣州市尤特新材料有限公司 法人代表：周志宏
員工人數：200-500人 廠(chǎng)房面積： 年營(yíng)業(yè)額：
年進(jìn)口額： 年出口額： 主要市場(chǎng)：
客戶(hù)群：
公司名稱(chēng):廣州市尤特新材料有限公司
注冊資本:人民幣2000萬(wàn)元/年-人民幣5000萬(wàn)元/年 公司網(wǎng)址：http://UVTMCOM.glass.com.cn

主營(yíng)產(chǎn)品：濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨 公司成立年份：2003
公司網(wǎng)址：http://UVTMCOM.glass.com.cn

地區：廣東 廣州 花都區
網(wǎng)址: http://UVTMCOM.glass.com.cn