鈦硅合金材料是一種高熔點(diǎn)的金屬間化合物，具有低的密度、良好的舒緩反應性，因而受到廣泛的重視。TiSi2是一種重要的硅化物，具有較好的高溫穩定性、較高的高溫強度和良好的舒緩反應能力，有希望成為1200℃以上使用的結構材料。由于其電阻和熱阻均較低，TiSi2也有希望應用于電氣連接和擴散阻擋層，目前已被作為歐姆接觸和金屬互聯(lián)材料廣泛用于超大規模集成電路制造技術(shù)中。形成鈦硅涂層，用磁控濺射法，鈦硅（TiSi）靶材在反應沉積過(guò)程中與氮氣反應，能理想的形成超硬的氮化物涂層。另外TiSi2薄膜在高溫下對壓力很敏感，有望成為高溫時(shí)的壓力感應器材料。Ti5Si3具有六方D88型晶體結構，具有高溫強度大，抗高溫氧化性能好等優(yōu)點(diǎn)。

TiSi具有低電阻率、較高的熱穩定性以及化學(xué)穩定性等諸多不錯的性能。傳統的鈦硅合金的制備是采用純金屬鈦和硅為原料制備的，由于金屬鈦制備成本高，工藝流程長(cháng)，導致制備的鈦硅合金成本較高。工業(yè)用硅粉、碳粉和碳化鈦為原料，利用放電等離子燒結技術(shù)原位反應制備了TiSi2/SiC兩相復合材料。弱放熱反應TiSi2燃燒合成的粉末冶金技術(shù)，用自蔓延高溫燃燒法合成了TiSi2單相化合物，其合成過(guò)程需要氬氣保護。鈦硅合金材料是一種高熔點(diǎn)的金屬間化合物，具有低的密度、良好的舒緩反應性，因而受到廣泛的重視。

HIT電池主要使用ITO靶材作為其透明導電薄膜。HIT電池是在晶體硅上沉積非晶硅薄膜，其結構是以N型單晶硅片作襯底，正反面依次沉積本征非晶硅薄膜、摻雜非晶硅薄膜、金屬氧化物導電層TCO，再通過(guò)絲網(wǎng)印刷制作正負電極，從而導出電流。比較成熟，成本占比不高，大約5%左右。HIT 薄膜電池帶動(dòng)光伏靶材需求。目前國內光伏電池主要以硅片涂覆型太陽(yáng)能電池為主，薄膜電池以及HIT占比較低，但是未來(lái)增長(cháng)潛力較大。2018年大部分國家薄膜電池量保持11%增長(cháng)，預計未來(lái)維持10%以上；HIT有望保持高速增長(cháng)，隨著(zhù)國內投資熱情高漲，產(chǎn)能有望從目前2GW增長(cháng)至2024年的100GW以上。綜合測算，預計我國太陽(yáng)能電池用靶材市場(chǎng)規模持續擴大。CAGR保持在15%以上，到2024年，我國太陽(yáng)能電池用靶材行業(yè)市場(chǎng)規模有望打破70億元。

濺射鍍膜和蒸發(fā)鍍膜的對比:濺射鍍膜工藝可重復性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結合力強等優(yōu)點(diǎn)，已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，各種類(lèi)型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應用，因此，對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為目前市場(chǎng)應用量大的PVD鍍膜材料。蒸發(fā)鍍膜簡(jiǎn)單便利、操作方便、成膜速度快。從工藝制造角度上來(lái)看，蒸鍍材料的制造復雜度要遠遠低于濺射靶材，蒸發(fā)鍍膜常用于小尺寸基板材料的鍍膜。

噴涂技術(shù)在工業(yè)應用上非常廣泛。采用冷噴涂沉積Fe(Al)固溶體合金涂層并結合后熱處理原位反應制備了納米結構FeAl金屬間化合物涂層。結果表明，球磨Fe(Al)合金粉末具有精細的層狀結構，噴涂態(tài)Fe(Al)合金涂層具有不同于傳統熱噴涂涂層的獨特層狀結構，保留了與原始粉末類(lèi)似的納米結構；熱等靜壓法是將粉末或預先壓成的素坯裝入包套后，再將套內抽真空焊接密封，放入高壓容器內，使粉末在高溫及等方壓力下燒結。成型和燒結同時(shí)進(jìn)行。在ITO靶材的發(fā)展中，早期采用的熱等靜壓技術(shù)難以獲得高密度、大尺寸的材料。但冷等靜壓成型超大尺寸的素坯時(shí)，由于受到腔室尺寸的限制，會(huì )導致設備投資非常昂貴，而且在素坯較薄、尺寸較大時(shí)存在變形問(wèn)題。同時(shí)，壓制不同尺寸的素坯時(shí)，需要制備不同規格的預壓模具，模具成本較高。

國際上通常把商品硅分成金屬硅和半導體硅，金屬硅主要用來(lái)制作多晶硅、單晶硅、硅鋁合金及硅鋼合金的化合物。金屬銦具有延展性好，可塑性強，熔點(diǎn)低，沸點(diǎn)高，低電阻，抗腐蝕等優(yōu)良特性，且具有較好的光滲透性和導電性，被廣泛應用于宇航、無(wú)線(xiàn)電和電子工業(yè)、國防、高新技術(shù)、能源等領(lǐng)域。生產(chǎn)ITO靶材（用于生產(chǎn)液晶顯示器和平板屏幕）是銦錠的主要消費領(lǐng)域，占大部分國家銦消費量的70%；其次電子半導體領(lǐng)域，占大部分國家消費量的12%。我國國內的靶材市場(chǎng)需求也會(huì )大幅增加，同時(shí)，隨著(zhù)國內濺射靶材技術(shù)的不斷成熟，再加上其先天的性?xún)r(jià)比優(yōu)勢，預計2018年中國半導體靶材市場(chǎng)增速有望達到60%，遠高于大部分國家平均水平。結語(yǔ)綜上，未來(lái)的2~3年，大部分國家靶材制造產(chǎn)業(yè)的產(chǎn)能增速會(huì )保持在3%~5%。而中國靶材市場(chǎng)的產(chǎn)能復合年增長(cháng)率將達到30%以上！

廣州市尤特新材料有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“尤特”），成立于2003年，位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬(wàn)平方米。尤特是一家專(zhuān)注于時(shí)尚消費電子產(chǎn)業(yè)、節能綠色環(huán)保產(chǎn)業(yè)、新材料新技術(shù)開(kāi)發(fā)和應用的重要高新技術(shù)企業(yè)。尤特以生產(chǎn)信息存儲記錄材料為起點(diǎn)，經(jīng)過(guò)10多年的開(kāi)拓與發(fā)展，產(chǎn)業(yè)技術(shù)不斷迭代與升級，尤特的技術(shù)及應用涉獵范圍逐步擴大，其中主要包括：真空鍍膜靶材；環(huán)保（UV/水性）材料；觸控顯示材料；印刷技術(shù)及材料；信息存儲材料、導電散熱材料等。尤特一直倡導“新材料、促環(huán)保、美生活”企業(yè)使命。尤特遵循科學(xué)體系管理，先后通過(guò)《質(zhì)量管理體系》、《環(huán)境管理體系》、《職業(yè)健康與安全管理體系》認證并有效運行，產(chǎn)品符合全部環(huán)境及安全標準；獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認證等。尤特重視產(chǎn)品研發(fā)及技術(shù)創(chuàng )新，先后與"武漢大學(xué)"、"華南理工大學(xué)"、"中南大學(xué)"等高校、研究所建立"產(chǎn)學(xué)研"合作機制，并承擔多項省市立項的科研項目，公司目前已擁有幾十項自主研發(fā)新興材料及工藝的知識產(chǎn)權，是廣州市扶持科技型要點(diǎn)培育上市企業(yè)。尤特先后獲得相關(guān)機構的授予多個(gè)榮譽(yù)：如“國家生產(chǎn)力促進(jìn)獎、國家有名商標、廣東省守合同重信用企業(yè)、廣東省雇主責任示范企業(yè)、廣州市安全生產(chǎn)標準化達標企業(yè)、廣州市工程技術(shù)研發(fā)中心、廣州科技小巨人企業(yè)、地方納稅企業(yè)”等榮譽(yù)。尤特全體同仁秉承“創(chuàng )造價(jià)值，分享價(jià)值“的核心價(jià)值觀(guān)，借鑒以往成功管理運營(yíng)經(jīng)驗，持續深挖磁控濺射鍍膜材料下游應用市場(chǎng)，不斷拓寬市場(chǎng)應用領(lǐng)域，做優(yōu)做強鍍膜材料產(chǎn)業(yè),將公司打造為--磁控濺射靶材行業(yè)者。

主營(yíng)產(chǎn)品：濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨 公司成立年份：2003
公司網(wǎng)址：http://UVTMCOM.glass.com.cn

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