鉬靶材主要用于平面顯示行業(yè)，屬于鉬金屬制品生產(chǎn)鏈頂端產(chǎn)品，技術(shù)含量高、生產(chǎn)難度大。UVTM自主研發(fā)、生產(chǎn)出具有完全知識產(chǎn)權的4.5代、5.0代、5.5代靶材，產(chǎn)品規格一次一次刷新紀錄。靶中毒的影響因素，靶中毒現象（1）正離子堆積：靶中毒時(shí)，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達陰極靶面時(shí)由于絕緣層的阻擋，不能直接進(jìn)入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產(chǎn)生冷場(chǎng)致弧光放電---打弧，使陰極濺射無(wú)法進(jìn)行下去。（2）陽(yáng)極消失：靶中毒時(shí)，接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜，到達陽(yáng)極的電子無(wú)法進(jìn)入陽(yáng)極，形成陽(yáng)極消失現象。一般我們使用的靶材不外乎三種類(lèi)型，金屬靶材、合金靶材、化合物靶材。硬碟使用的靶材有很多，在記錄面上鍍上多層的薄膜。

每層薄膜有各自的功效，在底層，會(huì )鍍上40nm厚的鉻或者鉻合金，增強結合力和抗腐蝕能力，中間再鍍上15nm厚的鈷鉻合金，再鍍上35nm厚的鈷合金，作為磁性材料，這種材料可以充分體現磁性和低干擾的特性，后再鍍上15nm厚的碳薄膜。鍍膜靶材是通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類(lèi)型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡(jiǎn)單說(shuō)的話(huà)，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料。濺射：即集成電路制造過(guò)程中要反復用到的工藝；靶材：就是濺射工藝中必不可少的重要原材料。那么，不同應用領(lǐng)域，對材料的選擇及性能要求也有一定差異。磁控濺射靶是真空磁控濺射鍍膜的核心部件，半導體芯片行業(yè)是金屬濺射靶材的主要應用領(lǐng)域之一。

硅靶材的成分、籌備和性能要求高的領(lǐng)域。具體來(lái)講，半導體芯片的制作過(guò)程可分為硅片制造、晶圓制造和芯片封裝等三大環(huán)節，其中，在晶圓制造和芯片封裝這兩個(gè)環(huán)節中都需要用到金屬濺射靶材。靶材是制備晶圓、面板、太陽(yáng)能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。我國ITO靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展現狀及其對我國觸控面板產(chǎn)業(yè)的影響。氧化銦錫(IndiumTinOde)，作為一種n型半導體材料，具有高的導電率、高的可見(jiàn)光透過(guò)率、高的機械硬度和良好的化學(xué)穩定性，液晶顯示器(LCD)、等離子顯示器(PDP)、電致發(fā)光顯示器(EL/OLED)、觸摸屏(TouchPanel)、太陽(yáng)能電池以及其他電子儀表的透明電極上廣泛應用。德純金屬靶材。靶材主要應用在平板顯示、記錄媒體、光伏電池、半導體等領(lǐng)域。

濺射鍍膜技術(shù)起源于國外，所需要的濺射材料——靶材也起源發(fā)展于國外。高純?yōu)R射靶材伴隨著(zhù)半導體工業(yè)的發(fā)展而興起，是典型的技術(shù)密集型產(chǎn)業(yè)，以美、日企業(yè)為代表的國外企業(yè)占強勢地位。日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯、住友化學(xué)、愛(ài)發(fā)科等占據著(zhù)大部分國家靶材市場(chǎng)的80%的份額，****國內。靶材，特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的物理-氣相沉積工藝（PVD）、太陽(yáng)能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術(shù)，也是PVD的一種。它通過(guò)在PVD設備中用離子對目標物進(jìn)行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料。

中國的半導體行業(yè)正處于成長(cháng)關(guān)鍵期，材料和技術(shù)仍依賴(lài)****，即便國內的已得到控制，但受到國際市場(chǎng)影響，圍繞半導體行業(yè)的焦慮仍在鏈條上下蔓延。市場(chǎng)的萎靡在一季度或許體現不太明顯，因為各廠(chǎng)家手中都有積壓訂單。二季度后，需求端的疲軟將會(huì )更大程度地在企業(yè)的業(yè)績(jì)中釋放，國際大廠(chǎng)目前都已大幅下修財測。Oled對靶材有什么要求？難度會(huì )高些，量的話(huà)可能會(huì )對鋁靶材高些，因為需要折疊，銅的不行。品名：噴涂硅鋁靶供應硅鋁旋轉靶材產(chǎn)地：陜西寶雞材質(zhì)：Si、Al規格：可以按照用戶(hù)需要定制。應用領(lǐng)域：應用于玻璃鍍膜(建筑玻璃和汽車(chē)玻璃)工業(yè)等行業(yè)。制作工藝：真空磁懸浮熔煉，澆鑄成錠，熱機械處理和準確機械加工。金屬靶材。高純?yōu)R射靶材的市場(chǎng)規模日益擴大。

由于濺射鍍膜工藝起源于國外，所需要的濺射靶材產(chǎn)品性能要求高、專(zhuān)業(yè)應用性強，因此，長(cháng)期以來(lái)大部分國家濺射靶材研制和生產(chǎn)主要集中在美國、日本少數幾家公司，產(chǎn)業(yè)集中度相當高。以霍尼韋爾（美國）、日礦金屬（日本）、東曹（日本）等跨國集團為代表的濺射靶材生產(chǎn)商較早涉足該領(lǐng)域，經(jīng)過(guò)幾十年的技術(shù)積淀，憑借其雄厚的技術(shù)力量、精細的生產(chǎn)控制和過(guò)硬的產(chǎn)品質(zhì)量居于大部分國家濺射靶材市場(chǎng)的主要地位，占據絕大部分市場(chǎng)份額。這些企業(yè)在掌握濺射靶材生產(chǎn)的核心技術(shù)以后，實(shí)施極其嚴格的保密措施，限制技術(shù)擴散，同時(shí)不斷進(jìn)行橫向擴張和垂直整合，將業(yè)務(wù)觸角積極擴展到濺射鍍膜的各個(gè)應用領(lǐng)域，牢牢把握著(zhù)大部分國家濺射靶材市場(chǎng)的主動(dòng)權，并帶領(lǐng)著(zhù)大部分國家濺射靶材行業(yè)的技術(shù)進(jìn)步。

廣州市尤特新材料有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“尤特”），成立于2003年，位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬(wàn)平方米。尤特是一家專(zhuān)注于時(shí)尚消費電子產(chǎn)業(yè)、節能綠色環(huán)保產(chǎn)業(yè)、新材料新技術(shù)開(kāi)發(fā)和應用的重要高新技術(shù)企業(yè)。尤特以生產(chǎn)信息存儲記錄材料為起點(diǎn)，經(jīng)過(guò)10多年的開(kāi)拓與發(fā)展，產(chǎn)業(yè)技術(shù)不斷迭代與升級，尤特的技術(shù)及應用涉獵范圍逐步擴大，其中主要包括：真空鍍膜靶材；環(huán)保（UV/水性）材料；觸控顯示材料；印刷技術(shù)及材料；信息存儲材料、導電散熱材料等。尤特一直倡導“新材料、促環(huán)保、美生活”企業(yè)使命。尤特遵循科學(xué)體系管理，先后通過(guò)《質(zhì)量管理體系》、《環(huán)境管理體系》、《職業(yè)健康與安全管理體系》認證并有效運行，產(chǎn)品符合全部環(huán)境及安全標準；獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認證等。尤特重視產(chǎn)品研發(fā)及技術(shù)創(chuàng )新，先后與"武漢大學(xué)"、"華南理工大學(xué)"、"中南大學(xué)"等高校、研究所建立"產(chǎn)學(xué)研"合作機制，并承擔多項省市立項的科研項目，公司目前已擁有幾十項自主研發(fā)新興材料及工藝的知識產(chǎn)權，是廣州市扶持科技型要點(diǎn)培育上市企業(yè)。尤特先后獲得相關(guān)機構的授予多個(gè)榮譽(yù)：如“國家生產(chǎn)力促進(jìn)獎、國家有名商標、廣東省守合同重信用企業(yè)、廣東省雇主責任示范企業(yè)、廣州市安全生產(chǎn)標準化達標企業(yè)、廣州市工程技術(shù)研發(fā)中心、廣州科技小巨人企業(yè)、地方納稅企業(yè)”等榮譽(yù)。尤特全體同仁秉承“創(chuàng )造價(jià)值，分享價(jià)值“的核心價(jià)值觀(guān)，借鑒以往成功管理運營(yíng)經(jīng)驗，持續深挖磁控濺射鍍膜材料下游應用市場(chǎng)，不斷拓寬市場(chǎng)應用領(lǐng)域，做優(yōu)做強鍍膜材料產(chǎn)業(yè),將公司打造為--磁控濺射靶材行業(yè)者。

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