本設備為多功能型超高真空等離子增強化學(xué)氣相沉積設備主要由全真空專(zhuān)用不銹鋼腔體,分子泵高真空系統,電源,生長(cháng)機體載體及溫控系統,獨立排氣和生長(cháng)壓力調節系統,冷卻循環(huán)水輔助設備等組成。整機結構緊湊、操作方便、抽真空速度快。此設備控制系統采用邏輯按鈕手動(dòng)控制與工控機自控控制可選。實(shí)現真空抽氣和鍍膜工藝一體化功能。此設備可用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si:H、多晶Si、SiC、W、Ti-Si、GaA
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