高純鎂（Mg）靶材 99.95%

高純鎂靶材 高純鎂顆粒 純度：99.95% 符號：Mg 原子量：24.30 熔點(diǎn)：650℃ 沸點(diǎn)：1100℃ 密度：1.738 規格：Φ50.8*5、Φ76.2*5 其他規格可根據客戶(hù)需求定做！? 熔化潛熱：8.792kJ/mol 升華熱：142.0（650℃）kJ/mol? 比熱容：147.0（25℃）J/(mol.k) 電阻率：4.47×10-6Ω.cm? 熱導率：1.57W/(cm.k) 蒸

2024-07-03 面議/片

高純镥（Lu）靶材 99.95%

高純镥（Lu）靶材 99.95% 產(chǎn)品類(lèi)別：稀土金屬靶材 產(chǎn)品名稱(chēng)：镥（Lu）靶材 元素符號：Lu 純度：3N 形狀：平面靶 異型定制 ? 镥濺射靶材由高純度的金屬組成。镥為銀白色金屬，是稀土元素中最硬和最致密的金屬；熔點(diǎn)1663℃，沸點(diǎn)3395℃，密度9.8404。镥在空氣中比較穩定；氧化镥為無(wú)色晶體，溶于酸生成相應的無(wú)色鹽。镥主要用于研究工作，其它用途很少。質(zhì)軟。溶于稀酸，能與水緩慢作用。鹽

2024-07-03 面議/片

高純鑭（La）靶材 99.95%

鑭靶材是高純度鑭金屬構成的固體靶。熔點(diǎn)927°C，密度7.3克/立方厘米，是一種柔軟，具有延展性的銀白色金屬。它可以用來(lái)制造特殊的光學(xué)眼鏡，也可以用來(lái)使鋼更具延展性。 ? 鑭濺射靶材的應用 鑭濺射靶材可用于薄膜沉積，裝飾，半導體，顯示器，LED和光伏器件，功能性涂層以及其他光學(xué)信息存儲空間行業(yè)，汽車(chē)玻璃和建筑玻璃等玻璃涂層行業(yè)，光通信等。

2024-07-03 面議/片

高純銥（Ir）靶材 99.95%

銥濺射靶材具有與銥金屬相同的特性。銥的熔點(diǎn)高達2466℃，化學(xué)性質(zhì)穩定，在1600℃以上的大氣氣氛中能保持良好的機械性能，還能承受住強酸、強堿、熔融試劑和高溫硅酸鹽的腐蝕。它是已知的最耐腐蝕的金屬，可以抵抗任何酸的侵蝕。盡管僅某些熔融鹽和鹵素會(huì )腐蝕固態(tài)銥，但細碎的銥粉塵更具活性，并且易燃。

2024-07-03 面議/片

高純銦（In）靶材 99.999%

銦濺射靶材制備工藝 檢查背板并清潔背板的外表面；將背板固定于可控溫平板加熱爐的平板上；將擋板固定于背板的上表面的四周緣以形成由背板和擋板圍成的上端開(kāi)口的容置腔；設定可控溫平板加熱爐的溫度為預熱溫度以預熱背板；將銦錠樣品加入可控溫熔料澆注爐中，設定可控溫熔料澆注爐的加熱溫度以將銦錠樣品熔化為銦液；將可控溫熔料澆注爐內的銦液澆注在容置腔中；將容置腔中的銦液上面漂浮的雜質(zhì)清理干凈；使可控溫平板加熱爐停止

2024-07-03 面議/片

高純鈥（Ho）靶材 99.95%

鈥濺射靶材是高純度鈥金屬構成的銀色金屬靶。鈥是一種可熔，柔軟，光澤的金屬。它的反應性太強，以至于無(wú)法自然地結合在一起，但是當分離時(shí)，它在室溫下的干燥空氣中相對穩定�？梢晕�收中子，因此在核反應堆中使用來(lái)保持鏈反應受控。它的合金用于某些磁體。Hol的原子質(zhì)量為164.93031 amu，熔點(diǎn)為1470.0°C（1743.15 K，2678.0°F），密度為8.54，晶體為六邊形。 ? 鈥濺射靶材的應

2024-07-03 面議/片

高純鉿（Hf）靶材 99.99%

鉿濺射靶材 具有與金屬鉿相同的性能。它的熔點(diǎn)2233 °C，沸點(diǎn)4603°C，密度13.31g /cm3，是一種帶光澤的銀灰色的過(guò)渡金屬。金屬鉿強度適中，抗腐蝕性好，中子吸收能力高，大量用于原子能工業(yè)；鉿可以生成多種合金，還可作賤金屬的表面包膜。 我公司可提供進(jìn)口低鋯高純鉿，可加工成靶材，顆粒等。 ? 鉿靶材制備工藝流程 備料 - 電子束熔煉 - 化學(xué)分析 - 鍛造 - 軋制 - 退火 - 金相

2024-07-03 面議/片

高純鍺（Ge）靶材 99.999%

鍺濺射靶材由高純鍺金屬組成。是一種硬而脆的材料，具有半金屬，灰白色的外觀(guān)。它的密度為5.35 g / cc，熔點(diǎn)為937°C，在1,167°C下的蒸氣壓為10 -4 Torr。在光學(xué)存儲介質(zhì)和光學(xué)涂層的生產(chǎn)中，它經(jīng)常在真空下蒸發(fā)以形成層。這種材料的其他用途是用作合金化劑和催化劑。 鍺靶材制備工藝流程 備料 - 區域熔煉 - 化學(xué)分析 - 鍛造 - 軋制 - 退火 - 金相檢測 - 機加工 -

2024-07-03 面議/片

硒化鋅（ZnSe）靶材 99.99%

硒化鋅材料對熱沖擊具有很高的承受能力，使它成為高功率CO2激光器系統中的光學(xué)材料。硬度只是多光譜級ZnS的2/3，材質(zhì)較軟易產(chǎn)生劃痕，而且材料折射率較大，所以需要在其表面鍍制高硬度減反射膜來(lái)加以保護并獲得較高的透過(guò)率。在其常用光譜范圍內，散射很低。在用做高功率激光器件時(shí)，需要嚴格控制材料的體吸收和內部結構缺陷，并采用最小破壞程度的拋光技術(shù)和光學(xué)質(zhì)量的鍍膜工藝。 光學(xué)性能 體吸收系數 ： 0.00

2024-07-03 面議/片

硒化銻（Sb2Se3）靶材 99.99

硒化銻（Sb2Se3）靶材 99.99% 理化性質(zhì)硒化銻為灰色塊狀物，熔點(diǎn)：611℃。分子量: 480.4。CAS號: 1315-05-5。密度: 5.843g/cm3。保持貯藏器密封、儲存在陰涼、干燥的地方，確保工作間有良好的通風(fēng)或排氣裝置。 應用領(lǐng)域三硒化二銻是一種無(wú)機化合物，化學(xué)式為Sb2Se3。它在自然界以硫化物礦石硒銻礦存在，晶體結構屬于正交晶系。這種化合物中，銻的氧化態(tài)為 3而硒為-

2024-07-03 面議/片