氧化鋁（Al2O3）靶材 99.99%

氧化鋁靶材 三氧化二鋁靶材 純度：99.99% 分子式：Al2O3 分子量：101.96 CAS號：1344-28-1 密度：4 熔點(diǎn)：2045℃ 折射率:1.6-1.65 透明波段：0.17-9um

2024-06-20 面議/片

五氧化二鈮（Nb2O5）靶材 99

五氧化二鈮顆粒（Nb2O5 Pellet） 元素 ： Nb?O? ???? 純度 ： 99.99% ???? 形狀 ： 顆粒 ???? 規格 ： 100g ???? 1Kg ???? 包裝 ： 真空包裝、紙箱、木箱 ??

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三氧化二鈧 （Sc2O3）靶材 9

氧化鈧靶材?Sc2O3 純度：99.99% 化學(xué)式：Sc2O3 分子量：137.91 CAS號：12060-08-1 熔點(diǎn)：2485℃ 密度：3.86 顏色：白色 氧化鈧可用作半導體鍍層的 蒸鍍材料，制造可變波長(cháng)的固體激光器和電視電子槍。金屬鹵化物燈等。

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三氧化鎢（WO3）靶材 99.99%

?三氧化鎢（WO?）陶瓷靶材 純度99.99% 三氧化鎢陶瓷靶材是一種分子式為 WO?的氧化物濺射材料，采用磁控濺射，通過(guò)多弧離子鍍或其他類(lèi)型的鍍膜系統，在適當的工藝條件下通過(guò)濺射在基體上形成WO?功能膜。WO3薄膜是一種重要的功能材料，具有優(yōu)良的電致變色性能，應用廣泛。如需更多詳情，歡迎電話(huà)咨詢(xún)獲得更多優(yōu)惠!　 三氧化鎢陶瓷靶材制備工藝 球磨-壓制-燒結。 三氧化鎢陶瓷靶材應用 廣泛應用于涂料加

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四氧化三鐵（Fe3O4）靶材 99

靶材的制備過(guò)程 1. 粉末合成 ·???????? 原料選擇：選用高純度的原料是確保靶材質(zhì)量的首要步驟。純度不僅影響靶材的結構完整性，還直接關(guān)系到最終薄膜的性能。 ·???????? 粉體處理：粉末的粒度和形態(tài)對后續燒結和性能有重要影響。通過(guò)球磨等方法，可以獲得均勻且具有適宜粒徑的粉末。 2. 燒結工藝 ·???????? 溫度控制：燒結溫度的精確控制對于獲得密實(shí)且均勻的靶材是關(guān)鍵。過(guò)高或過(guò)低的溫

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氧化鐵（Fe2O3）靶材 99.99%

氧化物靶材的種類(lèi) 透明導電氧化物（TCO）：例如氧化錫（SnO2）和氧化銦錫（ITO），主要用于觸摸屏和平板顯示器。這類(lèi)材料具有高透光率和良好的導電性。 高介電常數氧化物：如氧化鉿（HfO2），在半導體行業(yè)中用作柵介質(zhì)，因其高介電常數和良好的熱穩定性而受到重視。 鐵電和磁性氧化物：例如氧化鐵（Fe2O3）和鈣鈦礦結構的氧化物，如鈦酸鉛（PbTiO3），這些材料在存儲介質(zhì)和傳感器中有廣泛應用。

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氧化镥（Lu2O3）靶材 99.99%

氧化镥（Lu2O3）靶材 99.99% 氧化镥（Lu2O3）一般為白色粉末，不溶于水，溶于無(wú)機酸。用于釹鐵硼永磁材料、化工添加劑、電子工業(yè)、及科學(xué)研究等。

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氧化鐿（Yb2O3）靶材 99.99%

氧化鐿，即三氧化二鐿（Ytterbium oxide），分子式：Yb?O?；分子量：394.08。

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氧化釓（ Gd2O3）靶材 99.99

氧化釓（Gd?O?）陶瓷靶材 元素 ： Gd?O? ???? 純度 ： 3N ???? 形狀 ： 平面靶材 ???? 氧化釓陶瓷靶材是一種含有Gd和O的氧化物濺射材料，其熔點(diǎn)2420 ℃，密度7.407g/cm?。如需更多詳情，歡迎電話(huà)咨詢(xún)獲得更多優(yōu)惠!　 ? 氧化釓陶瓷靶材規格 直徑：1.0英寸, 2.0英寸, 3.0英寸, 4.0英寸, 5.0英寸 , 6.0英寸 ? 氧化釓陶瓷靶材應用 用于

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氧化釤（Sm2O3）靶材 99.99%

高純4N（99.99%）氧化釤陶瓷靶材 氧化釤陶瓷靶材是一種化合物鍍膜材料，其熔點(diǎn) 2335℃，密度8.347g/cm?。 氧化釤濺射靶是我們受歡迎的稀土陶瓷靶之一。如需更多詳情，歡迎電話(huà)咨詢(xún)獲得更多優(yōu)惠!　 氧化釤陶瓷靶材規格 直徑（200mm）、長(cháng)度（300mm）、寬度（200mm）、厚度（1mm）、定制 氧化釤陶瓷靶材應用 用于光學(xué)和紅外吸收玻璃以吸收紅外輻射。此外，它還用作核動(dòng)力反應堆控制

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