真空鍍膜設備的出現有力的解決了鍍膜行業(yè)里的疑難問(wèn)題，真空鍍膜設備大大加速了企業(yè)產(chǎn)品的產(chǎn)量和質(zhì)量，深受各企業(yè)朋友們和業(yè)界有經(jīng)驗者的認同和青睞，可以說(shuō)是真空鍍膜設備飛躍性的標志。真空鍍膜機是這個(gè)時(shí)代的產(chǎn)物和變新兒。
　　
　　關(guān)于真空鍍膜機的化學(xué)成分有三種：
　　
　　1、真空鍍膜厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，真空鍍膜在光學(xué)薄膜的尺度上看也就是1/10波長(cháng)作為單位，約為100A，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(cháng)的1/10范圍內，也就是說(shuō)對于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō)，真空鍍膜沒(méi)有任何障礙。
　　
　　2、真空鍍膜化學(xué)組分上的均勻性：就是說(shuō)在薄膜中，真空鍍膜化合物的原子組分會(huì )由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果真空鍍膜過(guò)程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，真空鍍膜的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。
　　
　　3、真空鍍膜晶格有序度的均勻性：這決定了真空鍍膜是單晶，多晶，非晶，也是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問(wèn)題。