低輻射玻璃根據生產(chǎn)工藝不同分為在線(xiàn)CVD技術(shù)與離線(xiàn)真空磁控濺射技術(shù)。
    離線(xiàn)真空磁控濺射工藝，是在玻璃表面鍍上具有低輻射作用的金屬銀功能膜，兩側必須加上多層介質(zhì)膜作為保護和過(guò)渡膜層，膜層與玻璃通過(guò)物理鍵結合。
    這種“軟鍍膜”產(chǎn)品有下列局限：膜層容易受到劃傷或損壞；由于銀較易氧化，膜層在接觸到空氣后會(huì )退化，因而其壽命有限；在短時(shí)間內必須將鍍膜后的玻璃合成中空；如進(jìn)行鋼化等深加工時(shí)一般在鍍膜之前完成。
    在線(xiàn)LOW-E采用具有較有優(yōu)勢水平的在線(xiàn)CVD技術(shù)，在浮法玻璃生產(chǎn)過(guò)程中，當玻璃處于近700℃高溫時(shí)，在表面上鍍上半導體金屬氧化物，膜層同玻璃通過(guò)化學(xué)鍵結合，成為玻璃表面的一部分。因而具有很好的化學(xué)穩定性和熱穩定性。
    這種“硬鍍膜”產(chǎn)品具有如下特性：可單片使用；膜層牢固，耐用，實(shí)現較久節能；在合成中空時(shí)無(wú)需除去邊部膜層，可像普通浮法玻璃一樣進(jìn)行熱彎、鋼化等深加工和儲存。