1．干研磨：研磨時(shí)只需在研具表面涂以少量的潤滑附加劑。如圖8-12a所示。砂粒在研磨過(guò)程中基本固定在研具上，它的磨削作用以滑動(dòng)磨削為主。這種方法生產(chǎn)率不高，但可達到很高的加工精度和較小的表面粗糙度值(Ra0.02～0.01μm)。

　　2．濕研磨：在研磨過(guò)程中將研磨劑涂在研具上，用分散的砂粒進(jìn)行研磨。研磨劑中除砂粒外還有煤油、機油、油酸、硬脂酸等物質(zhì)。在研磨過(guò)程中，部分砂粒存在于研具與工件之間，此時(shí)砂粒以滾動(dòng)磨削為主，生產(chǎn)率高，表面粗糙度Ra0.04～0.02μm，一般作粗加工用，但加工表面一般無(wú)光澤。

　　3．平面拋光機加工不銹鋼中，拋光軌跡對平面度的影響在保證工件加工表面和拋光器具表面上各點(diǎn)均有相同或相近的被切削條件和切削條件下(即保證工件走遍整個(gè)拋光盤(pán)表面,并使工件上各點(diǎn)具有相同或相近的拋光行程)，并保證其它拋光參數不變的情況下,拋光軌跡總長(cháng)度與總去除量成正比，有效控制拋光軌跡長(cháng)度是控制拋光精度重要因素之一"拋光軌跡總長(cháng)度不影響表面粗糙度。

　　4．平面拋光機加工不銹鋼中，拋光壓力對平面度的影響壓力的主要作用是影響液流層的分布,液流層模型有三種形式：直接接觸、半接觸、滑動(dòng)接觸。a、當壓力過(guò)大時(shí),屬于直接接觸,氧化層表面和拋光墊直接接觸,兩者之間幾乎沒(méi)有拋光液,屬于固一固接觸"摩擦力很大,機械作用很強,化學(xué)作用很弱,很容易造成表面劃傷。

　　高準確平面研磨和拋光原理及工藝簡(jiǎn)介：高準確平面研磨和拋光是利用自由散粒磨料在工件被加工面及磨盤(pán)基面上相對運動(dòng)，使工件表面變得非常高的平整度及光滑度，工件固定不需要強夾、真空、磁鐵，只是自然地放置在磨盤(pán)上，基本上能適合加工任何金屬和非金屬材料的工件，沒(méi)有了強制性的裝夾及一般磨床的剛性磨削，減少的了沖擊及發(fā)熱產(chǎn)生的次生變形，更用利于高精度和高光潔度的加工。即使一個(gè)沒(méi)有經(jīng)驗的操作員也可以輕易獲得較佳0.2um的平面度及Ra0.02um粗糙度。