在生活中我們經(jīng)常會(huì )用到各類(lèi)玻璃制品，例如玻璃窗、玻璃杯、玻璃移門(mén)等。玻璃制品兼顧美觀(guān)與實(shí)用，既能夠憑借晶瑩剔透的外表惹人喜愛(ài)，又能夠充分利用其堅硬耐用的物理性能。一些藝術(shù)玻璃甚至會(huì )使玻璃具有更多的圖樣，增強裝飾效果。本篇文章中我們將介紹鍍膜玻璃有什么效果，以及鍍膜鋼化玻璃有何技術(shù)要求。

一、鍍膜玻璃都有什么效果

        熱反射玻璃一般是在玻璃表面鍍一層或多層諸如鉻、鈦或不銹鋼等金屬或其化合物組成的薄膜,使產(chǎn)品呈豐富的色彩,對于可見(jiàn)光有適當的透射率,對紅外線(xiàn)有較高的反射率,對紫外線(xiàn)有較高吸收率,因此,也稱(chēng)為陽(yáng)光控制玻璃,主要用于建筑和玻璃幕墻;

        低輻射玻璃是在玻璃表面鍍由多層銀、銅或錫等金屬或其化合物組成的薄膜系,產(chǎn)品對可見(jiàn)光有較高的透射率,對紅外線(xiàn)有很高的反射率,具有良好的隔熱性能,主要用于建筑和汽車(chē)、船舶等交通工具,由于膜層強度較差,一般都制成中空玻璃使用;

        導電膜玻璃是在玻璃表面涂敷氧化銦錫等導電薄膜,可用于玻璃的加熱、除霜、除霧以及用作液晶顯示屏等; 

        鍍膜玻璃的生產(chǎn)方法很多,主要有真空磁控濺射法、真空蒸發(fā)法、化學(xué)氣相沉積法以及溶膠—凝膠法等.磁控濺射鍍膜玻璃利用磁控濺射技術(shù)可以設計制造多層復雜膜系,可在白色的玻璃基片上鍍出多種顏色,膜層的耐腐蝕和耐磨性能較好,是目前生產(chǎn)和使用較多的產(chǎn)品之一.真空蒸發(fā)鍍膜玻璃的品種和質(zhì)量與磁控濺射鍍膜玻璃相比均存在一定差距,已逐步被真空濺射法取代.化學(xué)氣相沉積法是在浮法玻璃生產(chǎn)線(xiàn)上通入反應氣體在灼熱的玻璃表面分解,均勻地沉積在玻璃表面形成鍍膜玻璃.該方法的特點(diǎn)是設備投入少、易調控,產(chǎn)品成本低、化學(xué)穩定性好,可進(jìn)行熱加工,是目前較有發(fā)展前途的生產(chǎn)方法之一.溶膠—凝膠法生產(chǎn)鍍膜玻璃工藝簡(jiǎn)單,穩定性也好,不足之處是產(chǎn)品光透射比太高,裝飾性較差.

二、鍍膜鋼化玻璃的工藝要求

        首先就是外觀(guān)了,外觀(guān)起碼沒(méi)有劃傷.

        膜面得完整,允許有個(gè)別沙眼.但不許密集存在.

        一般檢驗玻璃為自然光下距離玻璃1米遠觀(guān)測.

        工藝上,鋼化溫度不能太高.太高玻璃邊部膜層會(huì )變色.膜面向上擺放.不能反了.在未鋼化前基本上看不出有什么膜面損傷.但是有缺點(diǎn)的話(huà)鋼化后立馬就出來(lái)了

        需要硬鍍膜才能加工鋼化,就是所謂的在線(xiàn)鍍膜.

        離線(xiàn)鍍膜好像都不能鋼化.

        有的離線(xiàn)鍍膜在加工中空時(shí)需要除膜處理.

相關(guān)概念

玻璃

        玻璃是非晶無(wú)機非金屬材料，一般是用多種無(wú)機礦物(如石英砂、硼砂、硼酸、重晶石、碳酸鋇、石灰石、長(cháng)石、純堿等)為主要原料，另外加入少量輔助原料制成的。它的主要成分為二氧化硅和其他氧化物。普通玻璃的化學(xué)組成是Na2SiO3、CaSiO3、SiO2或Na2O·CaO·6SiO2等，主要成分是硅酸鹽復鹽，是一種無(wú)規則結構的非晶態(tài)固體。廣泛應用于建筑物，用來(lái)隔風(fēng)透光，屬于混合物。另有混入了某些金屬的氧化物或者鹽類(lèi)而顯現出顏色的有色玻璃，和通過(guò)物理或者化學(xué)的方法制得的鋼化玻璃等。有時(shí)把一些透明的塑料（如聚甲基丙烯酸甲酯）也稱(chēng)作農業(yè)生產(chǎn)體系玻璃。

鍍膜

        鍍膜是在表面鍍上非常薄的透明薄膜。當光線(xiàn)進(jìn)入不同傳遞物質(zhì)時(shí)（如由空氣進(jìn)入玻璃），大約有5%會(huì )被反射掉，在光學(xué)瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個(gè)加起來(lái)可以讓入射光線(xiàn)損失達30%至40%�，F代光學(xué)透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個(gè)瞄準鏡如果加以適當鍍膜，光線(xiàn)透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

磁控濺射

        磁控濺射（英語(yǔ)：magnetron sputtering）是在濺射的基礎上，運用靶板材料自身的電場(chǎng)與磁場(chǎng)的相互電磁交互作用，在靶板附近添加磁場(chǎng)，使得二次電子電離出更多的氬離子，增加濺射效率。磁控濺射分為平衡式與不平衡式。這種技術(shù)應用于材料鍍膜。其中高功率脈沖磁控濺射（high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS)或high-power pulsed magnetron sputtering (HPPMS)）近來(lái)使用較為普遍。

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