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【中玻網(wǎng)】在線(xiàn)APCVD鍍膜技術(shù)是一項成套的系統工程,如研制開(kāi)發(fā)的在線(xiàn)Low-E鍍膜玻璃、在線(xiàn)Sun-E鍍膜玻璃、光催化自潔凈鍍膜玻璃和在線(xiàn)TCO鍍膜玻璃等,都涉及到電子、化工、材料、自動(dòng)控制、流體力學(xué)、結構力學(xué)、機械制造等學(xué)科知識,同時(shí)需要這些學(xué)科知識的相互配合才能完成生產(chǎn)玻璃產(chǎn)品的技術(shù)。其中,反應器是在線(xiàn)鍍膜化學(xué)反應的關(guān)鍵器具,對先驅氣體原料的均勻分布、傳輸、溫度控制、化學(xué)反應、薄膜的均勻性有非常大影響,直接影響鍍膜玻璃的質(zhì)量,本文就雙向層流反應器結構設計進(jìn)行探討。
雙向層流反應器的結構:如圖1所示,其結構是單進(jìn)雙出,采用1個(gè)進(jìn)氣腔與2個(gè)排氣腔相結合的構造設計,以此引導混合氣體的雙向流動(dòng),迅速排出廢氣,避免滯留氣體對玻璃帶產(chǎn)生污染。
圖1 雙向層流反應器示意圖
反應器結構設計提高膜層均勻性:(1)等寬流道的進(jìn)氣腔,如圖2、3所示,第1片導流片是直條型,通過(guò)與之對應的流體動(dòng)力學(xué)電腦模擬計算的出口速度散點(diǎn),小流速Vmin=0.1 m/s,大流速Vmax=0.37m/s,振幅A=0.27 m/s,平均速度V1=0.235 m/s,速度波動(dòng)指數=振幅/平均速度=114.9%。在此速度波動(dòng)指數下,經(jīng)實(shí)際鍍膜試驗膜厚在玻璃帶寬度方向呈周期性變化,均勻性達不到要求。
圖2 等寬流道的進(jìn)氣腔示意圖
圖3 等寬流道的進(jìn)氣腔出口速度散點(diǎn)圖
。2)不等寬流道的進(jìn)氣腔,將第1片導流片設計為正弦周期性形狀,可以獲得不等寬流道的進(jìn)氣腔(圖4)。從等寬流道的進(jìn)氣腔出口速度散點(diǎn)圖(圖5)可以看出,氣體在對應進(jìn)料噴嘴的位置的出口速度分布小,并呈現一定的周期性變化。因此我們將流道的寬度設計成按照周期函數變化的不等寬結構。具體如圖4所示,通過(guò)在第1片導流片的與進(jìn)料噴嘴對應的位置增加氣體通過(guò)面積,以便增加進(jìn)氣腔出口處相應位置的氣體的動(dòng)能。這種不等寬結構所對應的流體動(dòng)力學(xué)電腦模擬計算的出口速度散點(diǎn)如圖5所示。
圖4 不等寬流道的進(jìn)氣腔示意圖
圖5 不等寬流道的進(jìn)氣腔出口速度散點(diǎn)圖
從圖5可以看出,小流速Vmin=0.288 m/s,大流速Vmax=0.320 m/s,振幅A=0.033 m/s,平均速度V1=0.305 m/s,速度波動(dòng)指數=振幅/平均速度=10.08%。在此速度波動(dòng)指數下,經(jīng)實(shí)際二氧化鈦鍍膜試驗,在玻璃帶寬度方向測得1組薄膜厚度(Å)為:434.02,427.61,418.03,397.17394.96,此膜厚的均勻性達到±5%,膜厚已經(jīng)沒(méi)有明顯的周期性變化,色差小于2.5CIELAB,薄膜均勻性達到技術(shù)要求,而且也不存在明顯的暗道。由此可見(jiàn),不等寬流道的氣體均布效果要優(yōu)于等寬的直線(xiàn)性流道,相應的鍍膜均勻性也得到了顯著(zhù)提高。
。3)進(jìn)氣腔、排氣腔的出氣口的園角設計,對出氣口進(jìn)行導圓處理后將有利于氣體流場(chǎng)的均勻,提高沉積厚度和微觀(guān)結構的均勻性和穩定性。導圓半徑越大越有利于流場(chǎng)的均勻。
。4)反應區氣體流動(dòng)的雷諾數,經(jīng)過(guò)計算,我公司雙向層流反應區的雷諾數遠遠小于層流狀態(tài)的臨界值2320,此時(shí)流場(chǎng)處于穩定的層流狀態(tài),有利于膜層的均勻效率高生長(cháng)。
玻璃企業(yè)在線(xiàn)化學(xué)氣相沉積鍍膜技術(shù)與工藝、沉積設備的優(yōu)化設計和沉積材料的研制開(kāi)發(fā)和實(shí)施中,反應器裝置是其中重要的設備之一,它的優(yōu)化設計對于在線(xiàn)鍍膜玻璃的均勻性與連續穩定生產(chǎn)、降低生產(chǎn)成本有重要促進(jìn)作用,尤其合理設計反應器導流片的形狀尺寸(如不等寬流道)與分布位置,以及對出氣口進(jìn)行導圓處理等關(guān)鍵部件的制作至關(guān)重要。因此,鍍膜反應器調整反應區的雷諾數使流場(chǎng)處于穩定的層流狀態(tài)、薄膜均勻性,對制造優(yōu)異鍍膜玻璃產(chǎn)品具有十分重要的意義。
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