【中玻網(wǎng)】超透鏡平面主要通過(guò)納米結構聚焦光線(xiàn)，而它有望完全改變從顯微鏡到照相機，再到傳感器和顯示器的一切。但到目前為止，大多數透鏡都能做到閃光片般的大小。盡管這種尺寸已經(jīng)能夠在特定應用中實(shí)現優(yōu)異的效果，但在弱光等透鏡需要大于瞳孔的條件下，我們需要更大的透鏡，比如說(shuō)虛擬現實(shí)應用。

　　現在，哈佛大學(xué)約翰·保爾森工程與應用科學(xué)學(xué)院的研究團隊開(kāi)發(fā)了一種全玻璃、厘米級的可見(jiàn)光譜超透鏡，并可以通過(guò)常規芯片生產(chǎn)方法進(jìn)行制造。

　　這份研究已經(jīng)發(fā)表在《Nano Letters》期刊中。

　　相關(guān)論文：All-Glass,Large metalens at Visible Wavelength Using Deep-Ultraviolet Projection Lithography

　　論文作者費德里科·卡帕索教授（Federico Capasso）表示：“這項研究為所謂的手機晶圓級攝像頭鋪平了道路，其中CMOS芯片和超透鏡傳感器可以直接堆疊在一起，并且易于實(shí)現光學(xué)對準，因為它們都為扁平。將來(lái)，同一家公司可以同時(shí)生產(chǎn)芯片和透鏡，因為兩者可以采用相同的技術(shù)制造：光刻�！�

　　論文第1作者、約翰·保爾森工程與應用科學(xué)學(xué)院博士后박준서（音譯樸俊書(shū)）指出：“以前，我們無(wú)法大規模生產(chǎn)可見(jiàn)光譜的厘米級超透鏡傳感器，因為我們要么采用費時(shí)的電子束光刻技術(shù)，要么采用不具備所需分辨率的L-Line光學(xué)步進(jìn)光刻技術(shù)�！�

　　超透鏡的納米柱

　　為了批量制造厘米級的超透鏡，研究人員使用了一種名為深紫外線(xiàn)（Deep-Ultraviolet；DUV）投影光刻技術(shù)。DUV通常用在要求細致圖案化的PC和手機芯片。利用這種技術(shù)，每枚芯片可以產(chǎn)生大量的超透鏡，而每個(gè)超透鏡都由數百萬(wàn)個(gè)納米級元件組成，只需進(jìn)行一次曝光即可。

　　通過(guò)將納米結構圖案直接蝕刻到玻璃表面，研究人員清理了原來(lái)超透鏡傳感器所需的耗時(shí)沉積過(guò)程。

　　這是第1種可量產(chǎn)的全玻璃、厘米級全光譜超透鏡。

　　然而，這種透鏡目前存在色差，亦即所有不同顏色的光線(xiàn)不會(huì )聚焦在同一點(diǎn)上，但研究人員正在積較地探索大直徑的消沒(méi)有色度差別超透鏡。