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UV切割保護膜晶元 線(xiàn)路板 芯產(chǎn)品特性：可抗氫氟酸，UV前粘性在800-1500g左右，UV后粘性會(huì )急聚下降至10g以下，可輕易剝離。產(chǎn)品用途：用于晶圓片、玻璃、LED芯片、線(xiàn)路板等半導體產(chǎn)品切割工藝�；幕�+膠厚粘性膠系適用溫度備注150#PO半透0.165MMUV前800-1500g ? ? UV后10g以下亞克力更適用于晶元 ? ? 芯片切割100#PO半透0.12MMUV前800-1500g ? ? UV后10g以下
2017-08-01 面議/平方米 -
UV切割保護膜產(chǎn)品特性：可抗氫氟酸，UV前粘性在800-1500g左右，UV后粘性會(huì )急聚下降至10g以下，可輕易剝離。產(chǎn)品用途：用于晶圓片、玻璃、LED芯片、線(xiàn)路板等半導體產(chǎn)品切割工藝�；幕�+膠厚粘性膠系適用溫度備注150#PO半透0.165MMUV前800-1500g ? ? UV后10g以下亞克力更適用于晶元 ? ? 芯片切割100#PO半透0.12MMUV前800-1500g ? ? UV后10g以下
2017-04-25 面議/平方米
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