我司可為客戶(hù)產(chǎn)品度身設計自動(dòng)噴涂生產(chǎn)線(xiàn)、整體式熱噴涂房、現場(chǎng)在線(xiàn)噴涂設備等交鑰匙工程，包適工藝流程設計、場(chǎng)地布置、專(zhuān)用設備開(kāi)發(fā)、抽風(fēng)除塵系統、自動(dòng)噴涂系統、自動(dòng)噴砂系統、監控系統、專(zhuān)業(yè)技術(shù)人員培訓、售后技術(shù)支持及保修服務(wù)。

·耙材噴涂生產(chǎn)線(xiàn)及制粉系統

·自動(dòng)噴鋅噴鋁生產(chǎn)線(xiàn)

·炊具導磁導熱涂層噴涂生產(chǎn)線(xiàn)

·高頻焊管?chē)婁\系統

·汽車(chē)冷凝器鋁帶噴鋅系統

·大功率多槍電弧熱噴涂系統

·全自動(dòng)生產(chǎn)線(xiàn)大功率熱噴涂系統

·核工業(yè)運用超音速火焰等離子制模具在線(xiàn)表面處理系統

·造紙烘缸在線(xiàn)噴涂系統

·電廠(chǎng)鍋爐在線(xiàn)噴涂系統

·熱噴涂加工方艙

·多維機械手自動(dòng)噴涂系統

·復雜多槍自動(dòng)噴涂系統

等離子噴靶材鉻靶、鈦靶、硅鋁靶設備

供應生產(chǎn)線(xiàn)--鍍膜靶材噴涂及先進(jìn)的制造設備技術(shù)

生產(chǎn)線(xiàn)---鍍膜靶材噴涂及制造設備技術(shù)特點(diǎn)：應用于玻璃鍍膜（建筑玻璃和汽車(chē)玻璃）工業(yè)產(chǎn)品遠銷(xiāo)東南亞等地與廣大客戶(hù)建立了良好的合作關(guān)系。優(yōu)良的產(chǎn)品質(zhì)量和及時(shí)的服務(wù)為企業(yè)贏(yíng)得了良好的口碑。

目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。

磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，較之較早點(diǎn)的蒸發(fā)鍍膜方式，其很多方面的優(yōu)勢相當明顯。作為一項已經(jīng)發(fā)展的較為成熟的技術(shù)，磁控濺射已經(jīng)被應用于許多領(lǐng)域。

磁控濺射原理：在被濺射的靶極(陰極)與陽(yáng)極之間加一個(gè)正交磁場(chǎng)和電場(chǎng)，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，較久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場(chǎng)，同高壓電場(chǎng)組成正交電磁場(chǎng)。在電場(chǎng)的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場(chǎng)的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。磁控濺射一般分為二種：支流濺射和射頻濺射，其中支流濺射設備原理簡(jiǎn)單，在濺射金屬時(shí)，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導電材料外，也可濺射非導電的材料，同時(shí)還司進(jìn)行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻

生產(chǎn)線(xiàn)---鍍膜靶材噴涂及制造設備技術(shù)構成：

采用等離子噴涂 （提供 SX~R全自動(dòng)噴砂設備、SX~30KW全自動(dòng)噴涂設備、系列配置靶材噴涂硅鋁粉制設備及工藝、噴涂房配置設計等先進(jìn)方案）生產(chǎn)線(xiàn)---鍍膜靶材噴涂及制造設備技術(shù)應用領(lǐng)域：本公司采用等離子噴涂生產(chǎn)靶的方法，專(zhuān)業(yè)研發(fā)、生產(chǎn)和銷(xiāo)售真空磁控濺射靶材，應用于玻璃鍍膜（建筑玻璃和汽車(chē)玻璃）工業(yè)等行業(yè)，主要靶材包括：鉻靶、鈦靶、硅鋁靶等，本公司可根據客戶(hù)要求研發(fā)出能滿(mǎn)足客戶(hù)要求的各種靶材噴涂制造技術(shù)并提供：

*鉻靶、鈦靶、硅鋁靶的噴涂制造技術(shù)方案

*鉻靶、鈦靶、硅鋁靶的噴涂工藝和參數

*鉻靶、鈦靶、硅鋁靶的噴涂技術(shù)工人培訓

*靶材等離子噴涂制造的生產(chǎn)線(xiàn)交鑰匙工程

*管靶噴涂制造的各種工裝、夾具的設計和加工

*靶材等離子噴涂粉的選型、配比、制粉工藝

*靶材等離子噴涂制粉設備交鑰匙工程

生產(chǎn)線(xiàn)---鍍膜靶材噴涂及制造設備技術(shù)加工系列：

磁控濺射鍍膜靶材：金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材，硫化物陶瓷濺射靶材，碲化物陶瓷濺射靶材，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化銦靶材(InP)，砷化鉛靶材(PbAs)，砷化銦靶材(InAs)。

高純高密度建設靶材有：濺射靶材（純度：99.9%-99.999%）

金屬靶材：鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。

服務(wù)與質(zhì)量承諾：

一、靶材等離子噴涂制粉設備交鑰匙工程

二、靶材等離子噴涂粉的選型、配比、制粉工藝

1、設備安裝調試與操作人員培訓。設備設有質(zhì)量的安全保用期.

2、我們的質(zhì)量方針是：“以滿(mǎn)意的產(chǎn)品，真誠的服務(wù)，鮮明的特色，滿(mǎn)足顧客的需求”。

3、企業(yè)設有完善的售前售中售后的服務(wù)體系，公司還提供保用期后的保養、維修等服務(wù)(只收取相應之成本費用)。

4、我們將為您提供熱情準確及時(shí)到位的服務(wù)，努力滿(mǎn)足和超越您的期望與需求。請及時(shí)與我們聯(lián)系。

鍍膜靶材噴涂 本公司采用等離子噴涂生產(chǎn)靶的方法，有經(jīng)驗研發(fā)、生產(chǎn)和銷(xiāo)售真空磁控濺射靶材，應用于玻璃鍍膜（建筑玻璃和汽車(chē)玻璃）工業(yè)等行業(yè)，本公司可根據客戶(hù)要求研發(fā)出能滿(mǎn)足客戶(hù)要求的各種靶材。主要靶材包括：鉻靶、鈦靶、硅鋁靶、特種合金靶、旋轉靶材等，產(chǎn)品遠銷(xiāo)東南亞等地，與廣大客戶(hù)建立了良好的合作關(guān)系。優(yōu)良的產(chǎn)品質(zhì)量和及時(shí)的服務(wù)為企業(yè)贏(yíng)得了良好的口碑。

聯(lián)系人：黃鑫
電話(huà)：86-020-84611931-
移動(dòng)電話(huà)：13694263363
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