科研實(shí)驗專(zhuān)項使用 二氧化硅靶材SiO2磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料

產(chǎn)品介紹

二氧化硅（SiO2）常溫下為固體，不溶于水，是酸性氧化物，不跟一般酸反應，但溶于氫氟酸及熱濃磷酸，能和熔融堿類(lèi)起作用。自然界中存在有結晶二氧化硅和無(wú)定形二氧化硅兩種。結晶二氧化硅因晶體結構不同，分為石英、鱗石英和方石英三種。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光導纖維、電子工業(yè)的重要部件、光學(xué)儀器、工藝品和耐火材料的原料，是科學(xué)研究的重要材料。

產(chǎn)品參數

中文名 二氧化硅 化學(xué)式 SiO2 熔點(diǎn) 1650±50℃

分子量 60.084 密度2.2 g/cm3 沸 點(diǎn) 2230℃

純度 99.99%

支持合金靶材定制，請提供靶材產(chǎn)品的元素、比例（重量比或原子比）、規格，我們會(huì )盡快為您報價(jià)��！

服務(wù)項目：靶材成份比例、規格、純度均可按需定制�？蒲袉挝回浀礁犊�，質(zhì)量保證，售后無(wú)憂(yōu)！

產(chǎn)品附件：發(fā)貨時(shí)產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝

適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設備

質(zhì)量控制：嚴格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢驗手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質(zhì)檢報告。

加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢驗→包裝出庫

北京晶邁中科材料技術(shù)有限公司創(chuàng )建于2016年,是國內有色金屬行業(yè)綜合性研究開(kāi)發(fā)公司。 現有員工100余人。我公司光學(xué)鍍膜材料中心以國內的技術(shù)，多年來(lái)一直有經(jīng)驗從事光學(xué)鍍膜材料及濺射靶材的研發(fā)與生產(chǎn)。靶材包括各種氧化物、硫化物、氟化物、碲化物、硒化物、硼化物、復合物、金屬及合金等，也可根據您的要求量身定做。通過(guò)嚴格控制生產(chǎn)、并持續改進(jìn)、穩步發(fā)展，致力為客戶(hù)提供的產(chǎn)品。 公司現有靶材熱壓爐；真空蒸餾裝置，電解槽，單晶爐，區熔裝置，CVD（化學(xué)氣象沉積）裝置，PVD（物理氣象沉積）裝置，移動(dòng)式加熱裝置等多種高純金屬和化合物生產(chǎn)研發(fā)設備；提純工藝包括：真空蒸餾；精餾；區域熔煉；電解；化學(xué)氣象沉積；物理氣象沉積；熱擴散；單晶提拉法等。純度從99.9%-99.99999%,公司先后研發(fā)的蒸發(fā)材料、濺射靶材系列產(chǎn)品，產(chǎn)品涉及工具/裝飾鍍膜、玻璃鍍膜、光學(xué)鍍膜、平面顯示/觸摸屏鍍膜、薄膜太陽(yáng)能鍍膜等多個(gè)領(lǐng)域廣泛應用到國內外眾多知名太陽(yáng)能、航空航天、生物健康、軍工微電子、信息儲存、汽車(chē)、船舶、裝飾、工業(yè)鍍膜、新能源企業(yè)當中。 自有設備：真空熱壓爐，真空中頻感應熔煉爐，冷坩堝懸浮熔煉爐，非自耗真空電弧爐，真空高溫加熱爐，真空燒結爐，真空蒸餾爐，定向凝固，區域熔煉爐，多溫區加熱爐，單晶爐，高溫燒結爐，單溫區，雙溫區、多溫區液相、氣相合成爐、氧化爐、加工設備。 北京晶邁中科材料技術(shù)有限公司幾年來(lái)已先后與國內幾十家知名高校、中科院等研究院所建立了長(cháng)期友好的合作關(guān)系，并與這些科研單位有密切的學(xué)術(shù)交流和技術(shù)合作項目，并遠銷(xiāo)歐洲、美國、日本、韓國等，在鍍膜行業(yè)擁有良好的聲譽(yù)。

二氧化硅靶材SiO2磁控濺射靶材

產(chǎn)品屬性：
計量單位：件 供貨總量：1000 最小起訂量：1 產(chǎn)品單價(jià)：1000.00 品牌： 規格型號： 包裝說(shuō)明：