磁控濺射中試線(xiàn)基本參數基片較大尺寸:356mm × 406mm濺射室極限真空:排氣性能:基片加熱:較高溫度400℃,均勻性±5%以?xún)葹R射陰極:平面陰極3條 500mm(H)×125mm(L)×9mm(T)?旋轉陰極2對 500mm(H)×133mm(ID)濺射電源:直流電源(10kW),中頻電源(10kW)磁控濺射中試線(xiàn)用途金屬膜代加工,工藝授權(各種顏色可調金屬/非金屬膜;衣服,燈,空調等顏色可
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