本系列產(chǎn)品是引進(jìn)法國（SAINTN）集團和美國（Rodel & Onden ）配方專(zhuān)利生產(chǎn)，該漿料的穩定性高，二氧化硅的含量不低于30%（wt%），平均分散粒徑為60nm，ph=11-12，呈強烈的藍相的白色液體。本品儲存溫度范圍大，經(jīng)試驗，低溫冷凍后，不影響使用性能。本氧化硅拋光液中含高度晶化的納米二氧化硅顆粒，再漿液中呈現穩定的空間立體網(wǎng)絡(luò )，不觸變、不凝膠，且金屬離子含量控制的非常好。具有去除速率高、使用方便、拋光效果好等特點(diǎn)。拋光后晶片表面的粗造度可以達到0.2nm以下，同時(shí)可以提高晶片的粗造度和平行度等，而且無(wú)劃傷，無(wú)拋光霧。

特點(diǎn) 1：拋光速率高：拋光速率可以達到0.6-1.2um.min,降低拋光工藝所需要的時(shí)間，高溫不出現非均化蝕坑等優(yōu)點(diǎn)，提高生產(chǎn)效率，循環(huán)使用，稀釋比例大

2：使用方便：本拋光液使用于通用的拋光工藝。

3：拋光效果好:該類(lèi)產(chǎn)品具有濃縮度高、磨料粒徑小、表面張力小、對有機物、金屬離子及顆粒容易清洗，拋光表面粗造度好無(wú)劃傷，不會(huì )出現拋光霧。

形 狀：本產(chǎn)品屬乳白膠體水溶液，無(wú)毒、無(wú)臭。

技術(shù)指標：二氧化硅含量30% 。PH值11-12。

比重d20度(c) 1.20-1.30。 鈉含量小于0.03%。 顆粒分布15-80nm納米。

粘度（25℃，mPa.s）≤5,分散度＜0.2

用 途：用于藍寶石晶片，砷化鎵晶片，玻璃硬盤(pán), 單晶硅片及半導體化合物晶片、碳化硅晶片的（CMP)化學(xué)表面拋光工藝等表面拋光。

使用方法

建議該漿料和去離子水的配比為1：2-1：50，也可根據實(shí)際工藝要求改變配比。

運輸及保存

1.運輸與存放溫度為5–50℃，25℃為較佳存放溫度，存放時(shí)應避光，以避免漿料變質(zhì)。

2.保質(zhì)期一年，建議半年使用。

3.避免金屬、顆粒污染，避免強電解質(zhì)的接觸。

深圳市煊納新材料有限公司是一家集研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售、服務(wù)為一體，以提供較優(yōu)、性?xún)r(jià)比的產(chǎn)品、技術(shù)和服務(wù)為宗旨的高科技企業(yè)。公司先后與國內外多家大學(xué)和研究院的材料學(xué)與技術(shù)研究中心等公共技術(shù)服務(wù)平臺、測試與檢驗中心建立了緊密的合作關(guān)系。公司致力于通過(guò)向客戶(hù)提供材料及其應用工藝方案，協(xié)助客戶(hù)提高產(chǎn)品性能和科技含量，進(jìn)而提高產(chǎn)品附加值并增強市場(chǎng)競爭力，使客戶(hù)在其相關(guān)行業(yè)內長(cháng)期保持創(chuàng )新優(yōu)勢，為客戶(hù)創(chuàng )造良好的經(jīng)濟效益�！罢\信、務(wù)實(shí)、創(chuàng )新、超越”是深圳市煊納新材料有限公司的團隊精力，致力于為客戶(hù)提供一體的、有經(jīng)驗的拋光、除油、除臘、表面處理、潤滑、切削等技術(shù)方案，并解決實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中的技術(shù)難題，不斷地為客戶(hù)提供較新較全的表面處理、拋光、潤滑切削產(chǎn)品技術(shù)和服務(wù)。煊納新材料有限公司正逐步成長(cháng)為一個(gè)技術(shù)一體、服務(wù)有經(jīng)驗、運作規范、管理完善的現代高科技企業(yè)。本公司的核心技術(shù)產(chǎn)品，是在充分掌握全部技術(shù)的前提下，再根據中國市場(chǎng)之需求自主開(kāi)發(fā)生產(chǎn)，并已向市場(chǎng)成功推出幾個(gè)系列高技術(shù)含量的工藝產(chǎn)品，其中包括:半導體材料、光學(xué)玻璃系列：SIO2拋光液、稀土拋光粉、金剛石拋光液、氧化鋁拋光液、切削液、磨削液、研磨粉、光學(xué)鏡頭液晶玻璃清洗劑等。電子清洗系列：硅晶片清洗劑、半導體清洗劑、液晶顯示器LCD清洗劑、OCA光學(xué)膠去除液等；涂料、紡織系列：涂料漿料助劑、防沉劑、紡織漿料助劑、陶瓷油漆助劑。我們秉承科技創(chuàng )新，“為客戶(hù)創(chuàng )造價(jià)值、為客戶(hù)共贏(yíng)市場(chǎng)”的經(jīng)營(yíng)理念，致力于對客戶(hù)需求及服務(wù)的高層度開(kāi)發(fā)，以及協(xié)同行業(yè)有效的提升綜合競爭力，并創(chuàng )造價(jià)值，竭誠為廣大客戶(hù)提供的服務(wù)。

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polishingmaterials硅片去除研磨損傷深度的拋光工藝所用液體材料稱(chēng)拋光液(俗稱(chēng)拋光劑)。常見(jiàn)的有二氧化硅拋光液及三氧化鉻拋光液，呈淡黃色或黃色透明液體如右圖（由于燈光原因可能會(huì )出現偏色現象）。拋光液是由多種化工溶液配制而成的溶液，它在拋光工藝中有重要的地位，合理選擇拋光液，能使加工出來(lái)的工件表面光亮美觀(guān)，色澤鮮艷，光亮奪目，還可以防止工件的銹蝕，保持與提高工件表面的光澤，起到清潔工件與磨具的作用。去除油污，軟化工件表面以加速磨消，減少磨具對工件的沖擊，改善工件條件。它具有無(wú)毒，無(wú)腐蝕，不易變質(zhì)等性能。拋光液的種類(lèi)很多，應根據加工條件來(lái)選擇。在光整效率，工作的研磨質(zhì)量，拋光的光潔度等方面。拋光液都顯示出其獨特的效果。用途：適合各種不銹鋼制品拋光。性狀：液體產(chǎn)品。工藝條件：拋光機配套使用腐蝕性：對不銹鋼無(wú)腐蝕，保持金屬表面光亮度，不變色。毒性：無(wú)毒，不污染環(huán)境。配比：1:5~10(以能潤濕工件為準)溫度：常溫使用