? 理想能源以開(kāi)發(fā)半導體設備的嚴謹態(tài)度和精細工藝來(lái)設計制造太陽(yáng)能光伏設備。自2010年3月成功開(kāi)發(fā)出靠前臺LPCVD設備以來(lái),理想能源的設備已經(jīng)在客戶(hù)處平穩運行至今。理想能源的設備具有以下特點(diǎn) (加插圖1及插圖2): ? ? 精細穩定:所鍍氧化物薄膜厚度可在100-1700納米范圍內自由設定,膜厚均勻性低于10% ? ? 高產(chǎn)能:根據所鍍膜厚度不同,鍍膜節拍范圍40-170秒,設備有效工
2011-05-18 0關(guān)于本網(wǎng)| 大事記|玻璃展會(huì )|熱點(diǎn)搜索|玻璃人才|玻璃名錄|站點(diǎn)地圖|活動(dòng)推廣|隱私聲明|版權聲明|玻璃供應|聯(lián)系我們|English
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