深圳市天源表面技術(shù)開(kāi)發(fā)有限公司（簡(jiǎn)稱(chēng)天源）是一家表面技術(shù)與鍍膜材料研發(fā)企業(yè):天源以表面工程、鍍膜材料和新能源開(kāi)發(fā)為其研究領(lǐng)域，產(chǎn)品廣泛服務(wù)于各個(gè)高校及高新技術(shù)領(lǐng)域的企業(yè)，公司通過(guò)多年來(lái)基礎和應用研究以及新產(chǎn)品開(kāi)發(fā)，已形成了自己?jiǎn)为氈R產(chǎn)權的技術(shù)和系列產(chǎn)品，同時(shí)公司還擁有一支高素質(zhì)的研發(fā)、生產(chǎn)、管理和銷(xiāo)售隊伍，與國內外多所院校、研究所、企業(yè)有合作關(guān)系。公司現主要從事表面處理、真空鍍膜材料及高技術(shù)產(chǎn)品研發(fā)，公司主要經(jīng)營(yíng)范圍有：高純真空鍍膜材料、高純金屬、合金與稀土氧化物試劑、效率高焊接材料、無(wú)機非金屬材料以及提供真空離子鍍膜與塑膠制品表面處理加工服務(wù)。

天源公司堅持以：“可靠的質(zhì)量，完善的售后服務(wù)，崇高的信譽(yù)”為宗旨，憑著(zhù)過(guò)硬的產(chǎn)品，合理的價(jià)格以及多年的創(chuàng )業(yè)歷程，公司現已發(fā)展成為具有一定規模的有經(jīng)驗性真空鍍膜材料、稀土材料、金屬氧化物、化工原料供應商，并且在湖南、深圳等地設有加工工廠(chǎng)，加工檢驗設備齊全，其中有：冶煉、熱壓、燒結、鍍膜等設備，公司秉乘著(zhù)：“誠信為本、信譽(yù)至上”經(jīng)營(yíng)理念，真誠希望成為您長(cháng)期的合作商，并熱忱歡迎新老客戶(hù)的光臨，希望以我們可靠的質(zhì)量、的服務(wù)、和有競爭力的價(jià)格與您共同開(kāi)拓市場(chǎng)，共創(chuàng )輝煌！

公司主要經(jīng)營(yíng)產(chǎn)品：

一、真空鍍膜材料

1．高純真空濺射靶材（99.9％——99.999％）

高純金屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……

多元合金靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……

陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等…

稀土金屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等…

稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶

金屬膜電阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材：

金屬膜電阻器用靶材包括高阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。

2．高純光學(xué)鍍膜材料（99.99％——99.999％）

氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等…

氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等…

硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…

天源公司自主研發(fā)的真空濺射靶材、光學(xué)鍍膜材料廣泛應用于裝飾鍍膜、工具鍍膜、光學(xué)鍍膜及鍍膜玻璃工業(yè)與平板顯視行業(yè)。生產(chǎn)的濺射靶材成分設計合理、表面平整光滑，具有良好的導電性，濺射時(shí)工作電流穩定，高阻靶材的底板焊接牢固適用，采用該靶材制作的電阻器，具有阻值集中、穩定性好，有良好的耐熱、耐磨和舒緩反應性能，電阻溫度系數小等特點(diǎn)。其靶材的制備都是根據其材料特性來(lái)加工的：分熱壓燒結工藝法和真空熔鑄工藝法，產(chǎn)品均具有純度高，微觀(guān)籌備及利用率高等特點(diǎn)，靶型有：平面矩形，管形，圓盤(pán)形，環(huán)形，片狀，粉狀等，規格和成分還可以根據用戶(hù)的具體要求來(lái)定做。