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廣州市尤特新材料有限公司

主營(yíng):濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨

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  • 尤特靶材,廣東靶材,廣州靶材,東莞靶材
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    真空噴涂硅靶材性能介紹及其優(yōu)點(diǎn) ? ? ? 尤特新材料供應各種靶材,噴涂法是利用高壓氣體(N2、H2 、混合氣體或空氣)攜帶粉末顆粒經(jīng)縮放管產(chǎn)生超音速雙相流,在完全固態(tài)下撞擊基體,通過(guò)較大的塑性流動(dòng)變形沉積于綁定背板表面而形成涂層,涂層逐層增厚,獲得陶瓷靶材。由基本的噴涂法又衍生出等離子體噴涂、電弧噴涂、超音速火焰噴涂、冷噴涂等噴涂成型技術(shù)。使用氧化鈮粉體和少量金屬Nb,用等離子體噴涂實(shí)現了工業(yè)化

    2024-08-14 面議/公斤
  • Nb2O5靶材,五氧化二鈮靶材,氧化鈮靶材價(jià)格
    Nb2O5靶材,五氧化二鈮靶材,

    ? ? ? 旋轉靶材相對于平面靶材具有很多的優(yōu)點(diǎn),I)利用率高(70%以上)。甚至可以達到90%;2)濺射速度快,為平面靶的2-3倍;3)有效地減少打弧和表面掉渣,工藝穩定性好坐寸ο對于旋轉鍍膜靶材,要求旋轉靶`材為單根整體,或分段焊接在同一襯管上。以目前技術(shù)條件,旋轉靶材的制備方法主要包括熱等靜壓法、熱壓燒結法和澆鑄法,以上工藝各有優(yōu)缺點(diǎn),但是對不同尺寸的靈活控制難以滿(mǎn)足,尤其是熱壓燒結法只能生

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  • 氧化鋁靶材,氧化鋁管靶材,三氧化二鋁靶材
    氧化鋁靶材,氧化鋁管靶材,三

    隨著(zhù)人臉識別技術(shù)的愈發(fā)成熟,紅外手機人臉識別開(kāi)始大量普及,成為當前市場(chǎng)的重要發(fā)展趨勢,而硅靶材作為手機玻璃蓋板的關(guān)鍵鍍膜材料,硅靶材作為應用于手機玻璃蓋板的重要靶材產(chǎn)品,獲得多家手機玻璃蓋板生產(chǎn)客戶(hù)的認可。光學(xué)器件應用范圍非常廣泛,主要包括智能手機、車(chē)載鏡頭、安防監控設備、數碼相機、光碟機、投影機等應用產(chǎn)品包括航空航天監測鏡頭、生物識別設備、生命科學(xué)中DNA測序等研究設備、檢查儀器鏡頭、半導體檢測

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  • 金屬鈮靶材,噴涂鈮管靶,綁定鈮靶材,一體鈮靶材
    金屬鈮靶材,噴涂鈮管靶,綁定

    芯片行業(yè)擁有一條超長(cháng)的產(chǎn)業(yè)鏈,其整體可分為設計、制造、封裝、測試四大環(huán)節。除了在設計領(lǐng)域。日本是主要的半導體材料生產(chǎn)國,并在半導體材料里長(cháng)期保持優(yōu)勢,體芯片需要19種左右的必須的材料,缺一不可,且大多數材料具備高的技術(shù)壁壘。薄膜復晶)、焊線(xiàn)、封裝材料等14種重要材料方面均占有50%以上的份額。根據中國濺射靶材行業(yè)市場(chǎng)數據顯示:靶材在半導體材料中占比約為2.5-3%。靶材是濺射薄膜制備的源頭材料,又

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  • 綁定硅靶,硅靶綁定,多晶硅靶,高純硅綁定靶
    綁定硅靶,硅靶綁定,多晶硅靶

    ? ? ? 目前芯片生產(chǎn)所使用的主流導體互連工藝中同時(shí)存在鋁和銅兩種導線(xiàn)工藝,一般來(lái)說(shuō)110nm晶圓技術(shù)節點(diǎn)以上使用鋁導線(xiàn),110nm晶圓技術(shù)節點(diǎn)下使用銅導線(xiàn)(應用在更小的納米制程中)。鈦是較為為常用的阻擋層薄膜材料之一,主要是半導體領(lǐng)域,對應的事導電層薄膜是鋁;鉭在高等的超大規模集成電路芯片中是阻擋層薄膜材料之一(相應的導電層薄膜為銅);鎢鈦靶:半導體芯片門(mén)電路接觸層和阻擋層;鈦材料作為鋁導線(xiàn)的

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  • 高純鋯靶,高純鋯靶,鋯靶材源頭廠(chǎng)家,鋯靶材價(jià)格
    高純鋯靶,高純鋯靶,鋯靶材源

    ? ? ? 目前大部分國家高等靶材市場(chǎng)主要分布于韓國、、中國、日本,中國有超過(guò)20家靶材生產(chǎn)企業(yè),依靠國內的巨大市場(chǎng)潛力和利好的產(chǎn)業(yè)政策,以及產(chǎn)品價(jià)格優(yōu)勢,國內的靶材制造商已經(jīng)在國內市場(chǎng)占有一定的市場(chǎng)份額,并逐步在個(gè)別細分領(lǐng)域搶占了部分國際大廠(chǎng)的市場(chǎng)空間。UVTM擁有多年開(kāi)發(fā)和工作經(jīng)驗的納米材料,并擁有冷噴涂技術(shù)生產(chǎn)金屬合金靶材,其制備的靶材Sn和O含量均略低于國產(chǎn)靶材。UVTM還是靶材綁定方面的

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  • 鉭靶材,鉭靶材用途,鉭靶材綁定,鉭靶材廠(chǎng)家
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    ? ? ? 未來(lái)HIT和薄膜電池增長(cháng)潛力很大。由于HJT電池的工藝要求較高,因此ITO濺射靶材的比例和純度非常重要。什么是高純?yōu)R射靶材?就是利用各種高純單質(zhì)貨品及新型化合物制得的功能薄膜為(簡(jiǎn)單理解就是純度更高),主要用于對材料純度、穩定性要求更高的領(lǐng)域,像集成電路、平板顯示器、太陽(yáng)能電池、記錄媒體、智能玻璃等行業(yè)。在濺射靶材應用領(lǐng)域中,半導體芯片對濺射靶材的要求是比較高的,要求靶材純度很高,一般

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  • 低阻硅靶材,低阻硅管靶,高純硅管靶材廠(chǎng)家
    低阻硅靶材,低阻硅管靶,高純

    ? ? ? 離子束濺射又稱(chēng)離子束沉積,是在離子束技術(shù)基礎上發(fā)展起來(lái)的新的成膜技術(shù),特點(diǎn)在高真空下,利用離子束濺射鍍膜,是非等離子體狀態(tài)下的成膜過(guò)程。靶接地電位也可,丕可以進(jìn)行反應離子束濺射。雖然這種鍍膜技術(shù)所設計到現象比較復雜,但通過(guò)核實(shí)的選擇靶材及例子能量、種類(lèi)等,可以比較容易地制取各種不同的金屬、氧化物、氮化物及其他化合物等薄膜,特別適合制作多組元金屬氧化物薄膜。目前這一技術(shù)已在磁性材料、超導

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  • 高純石墨靶材3N-6N定制,石墨靶材生產(chǎn)廠(chǎng)家
    高純石墨靶材3N-6N定制,石墨

    ? 20 世紀90 年代以來(lái)靶材已蓬勃發(fā)展成為一個(gè)專(zhuān)業(yè)化產(chǎn)業(yè),中國及亞太地區靶材的需求占有世界70%以上的市場(chǎng)份額。大量不同的沉積技術(shù)用來(lái)沉積生長(cháng)各種薄膜 ,而靶材是制作薄膜的關(guān)鍵,品質(zhì)的好壞對薄膜的意義重大。目前高端品質(zhì)靶材主要由:日本、德國和美國生產(chǎn),我國靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚,在產(chǎn)品質(zhì)量與精細標準上與國外有不少的差距,國內也有許多大學(xué)及研究機構對靶材積極投入了大量鉆研與開(kāi)發(fā),經(jīng)過(guò)這幾年的發(fā)展也涌現

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  • 高純碳靶材,高純石墨靶,石墨靶材C,石墨靶材廠(chǎng)家
    高純碳靶材,高純石墨靶,石墨

    ? ? 磁控濺射靶材廣泛應用于用于建筑/汽車(chē)玻璃工業(yè)、薄膜太陽(yáng)能工業(yè)、平面顯示工業(yè)、裝飾/功能鍍膜工業(yè)。隨著(zhù)國內靶材行業(yè)研發(fā)的投入和發(fā)展,國內已有靶材供應商、制造商的生產(chǎn)出來(lái)的靶材達到了進(jìn)口的水平。在廣州,尤特新材料成為全球全球較好個(gè)研制最長(cháng)、最厚旋轉靶材的制造商,隨著(zhù)研發(fā)的持續投入,國內靶材行業(yè)的未來(lái)值得期待。 ? ? 磁控濺射是一種物理氣相沉積的。濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料

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