銅靶Cu,石墨靶C,硅靶Si,鐵靶

ITO靶、AZO靶，氧化鎂靶、氧化鐵靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、硫化鎘靶，硫化鉬靶，二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶，五氧化二鉭靶，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、氟化鎂靶，硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳

2024-07-31 面議/套

高純AZO靶材,98:2AZO靶材,AZ

什么是磁控濺射鍍膜靶材？磁控濺射鍍膜是一種新型的物相鍍膜方式,就是用電子系統把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上，使其被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉換原理以較高的動(dòng)能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。濺射靶材有金屬，合金，陶瓷，硼化物等。濺射靶材主要應用于電子及信息產(chǎn)業(yè)。光學(xué)器件應用范圍非常廣泛，主要包括智能手機、車(chē)載鏡頭、安防監控設備、數碼相機、光碟機、投影機等，元器件及光學(xué)鏡頭。 ?

2024-07-31 面議/套

高純鉻靶,鉻管靶,鉻靶材源頭

? ? 鎳鉑合金濺射靶材在半導體制造中的應用及發(fā)展趨勢。金屬硅化物具有不錯的高溫舒緩反應性以及良好的導電、導熱性，已廣泛應用于半導體制造中作為優(yōu)良的接觸材料。隨著(zhù)金屬硅化物的不斷發(fā)展，主要的硅化物已從鈦、鈷硅化物逐步發(fā)展到低電阻、低耗硅量以及低形成溫度的鎳硅化物。鎳鉑硅化物薄膜在半導體制造中的應用,廣泛應用于開(kāi)關(guān)電源、變頻器、驅動(dòng)器等電路中。隨著(zhù)肖特基二極管工藝不斷發(fā)展，金屬硅化物-硅接觸已取代了

2024-07-31 面議/套

黃金靶材,玫瑰金靶材,氮化鈦

? ? 除了光照及電應力會(huì )影響a-IGZOTFT的穩定性外，其對空氣中的氧氣和水蒸氣也較為敏感，長(cháng)處于潮濕空氣中會(huì )使其性能發(fā)生明顯下降。同時(shí)，IGZO背溝道表面在薄膜制備過(guò)程或者環(huán)境中容易受到，也是其穩定性不高的原因之一。IGZOTFT電學(xué)特性在氫氧環(huán)境中也會(huì )發(fā)生衰退。2016年大部分國家高純?yōu)R射靶材市場(chǎng)規模約為113.6億美元，預計到2019年，大部分國家高純?yōu)R射靶材市場(chǎng)規模將超過(guò)163億美元，

2024-07-31 面議/套

各種平面靶材,金屬靶材源頭

? ? ? 靶材可分為：長(cháng)靶、方靶、圓靶。按應用領(lǐng)域不同可分為：半導體芯片靶材、平面顯示器靶材、太陽(yáng)能電池靶材、信息存儲靶材、工具改性靶材、電子器件靶材、其他靶材。濺射：即集成電路制造過(guò)程中要反復用到的工藝；靶材：就是濺射工藝中必不可少的重要原材料。那么，不同應用領(lǐng)域，對材料的選擇及性能要求也有一定差異，Low-E玻璃具有可以阻止空氣由熱向冷傳遞的特性,其指標有：輻射率、可見(jiàn)光透射比、遮陽(yáng)系數、傳

2024-07-31 面議/套

高純氧化鈮靶材 Nb2O5靶材

? ? ? 氧化銦中僅添加了氧化錫的ITO，由于燒結時(shí)蒸氣壓高，采用利用蒸發(fā)和凝縮來(lái)燒結的機構，難以產(chǎn)生收縮，燒結體致密化困難。鍍膜時(shí)，若片材的密度過(guò)低，則在照射電子束時(shí)材料從表面蒸發(fā)出來(lái)并同時(shí)引起靶材的急劇燒結，存在由局部片材收縮所引起的靶材破損問(wèn)題。另一方面，若靶材密度過(guò)高，則在照射電子束時(shí)靶材的表面和內部產(chǎn)生溫度差，并因熱膨脹的差異而發(fā)生靶材破損（由熱沖擊引起的破損）的問(wèn)題。若發(fā)生靶材破損，

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AZO靶材價(jià)格 AZO鍍膜靶材 AZ

? ? ? 靶材，特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的物理-氣相沉積工藝（PVD）、太陽(yáng)能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術(shù)，也是PVD的一種。它通過(guò)在PVD設備中用離子對目標物進(jìn)行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱(chēng)為濺射靶材。 ? ? ? 薄膜太陽(yáng)能電池比傳統的晶體硅太

2024-07-31 面議/套

硅鋁鋯靶材,硅鋁靶材,高純硅

? ? ? 鉬靶材主要用于平面顯示行業(yè)，屬于鉬金屬制品生產(chǎn)鏈頂端產(chǎn)品，技術(shù)含量高、生產(chǎn)難度大。UVTM自主研發(fā)、生產(chǎn)出具有完全知識產(chǎn)權的4.5代、5.0代、5.5代靶材，產(chǎn)品規格一次一次刷新紀錄。靶中毒的影響因素，靶中毒現象（1）正離子堆積：靶中毒時(shí)，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達陰極靶面時(shí)由于絕緣層的阻擋，不能直接進(jìn)入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產(chǎn)生冷場(chǎng)致弧光放電---打弧，使陰極濺射無(wú)法進(jìn)

2024-07-31 面議/套

鋯靶材用途,鋯靶材鍍色,鋯靶

? ? ? 鍍膜靶材是用物理或化學(xué)的方法在靶材表面鍍層透明的電解質(zhì)膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變靶材表面的反射和透射特性。而鍍膜的方法有真空鍍膜和光學(xué)鍍膜，真空鍍膜和光學(xué)鍍膜的區別是什么。在19世紀末，ITO薄膜的研究工作開(kāi)始真實(shí)地發(fā)展了起來(lái)，當時(shí)是在光電導的材料上獲得很薄的金屬薄膜。而關(guān)于透明導電材料的研究進(jìn)入一個(gè)新的時(shí)期，則是在第二次世界大戰期間，主要應用于飛機的除冰窗戶(hù)玻璃。而在1950年，

2024-07-31 面議/套

綁定石墨靶材,C靶材,碳靶材,

? ? ? 隨著(zhù)石墨加工技術(shù)的提高，石墨靶材興起，石墨靶材也會(huì )被應用在更加廣闊的領(lǐng)域中,在市場(chǎng)中，優(yōu)質(zhì)石墨靶材主要來(lái)源日本、德國、美國，不僅是在靶材行業(yè)，在石墨行業(yè)我們這些國家的差距還是很大的。在靶材行業(yè)中，我們常見(jiàn)到的有金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材、這些在靶材在微電子、顯示器、儲存等行業(yè)有著(zhù)廣泛的應用。石墨靶材自身具有耐高溫、自潤滑、耐腐蝕、導電性良好等特點(diǎn)，用石墨做靶材，根據行業(yè)的不同選用不同

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