陶瓷靶材的種類(lèi)及其應用

    隨著(zhù)電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高技術(shù)材料逐漸向薄膜轉移，鍍膜期間隨之發(fā)展迅速，靶材是一種具有高附加值的特種電子材料，是濺射薄膜材料的源較。陶瓷靶材作為非金屬薄膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎材料，已得到從未有過(guò)的發(fā)展，靶材市場(chǎng)規模日益膨脹。

    國內的陶瓷平面靶材主要采用燒結及綁定工藝，可生產(chǎn)非常大長(cháng)度600mm，非常大寬度400mmm，非常大厚度30mm，圓角、斜邊、臺階等異形根據客戶(hù)要求加工。

陶瓷靶材的種類(lèi)：
（1）按應用來(lái)分，可分為半導體關(guān)聯(lián)陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、磁記錄陶瓷靶材、光記錄陶瓷靶材、超導陶瓷靶材、巨磁電阻陶瓷靶材等。
（2）按化學(xué)組成，可分為氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物陶瓷靶材和硫化物陶瓷靶材等。其中平面顯示ITO陶瓷靶材國內已廣泛生產(chǎn)應用。高介電絕緣膜用陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材具有廣闊的應用前景。

    陶瓷靶材在現有的復雜電子產(chǎn)品制造中，只不過(guò)占工程的較少部分，但起到了信息產(chǎn)業(yè)基礎先導材料的作用。

    國內的陶瓷平面靶材主要采用燒結及綁定工藝，可生產(chǎn)非常大長(cháng)度600mm，非常大寬度400mmm，非常大厚度30mm，圓角、斜邊、臺階等異形根據客戶(hù)要求加工。我國電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展很快，陶瓷濺射靶材的需求逐年增多，未來(lái)對陶瓷濺射靶材的研究和開(kāi)發(fā)，是我國靶材供應商的一個(gè)重要的課題。