隨著(zhù)市場(chǎng)需求的變化，中高等靶材成為鍍膜行業(yè)必不可缺的部分，近年國內的靶材行業(yè)發(fā)展迅速，靶材供應商紛紛加大研發(fā)和投入，廣東的靶材供應商發(fā)展勢頭強勁，中高等的靶材制造商在廣州實(shí)現量產(chǎn)。靶材產(chǎn)品的種類(lèi)也越來(lái)越豐富 ：銀（Ag）靶、Cr靶、Ti靶、鎳鉻（NiCr）靶、鋅錫（ZnSn）靶、硅鋁（SiAl）靶、氧化鈦（TixOy）靶，鎳鉻靶等。

靶材在玻璃上的另一個(gè)重要應用是制備汽車(chē)后視鏡，主要是鉻靶、鋁靶、氧化鈦靶等。由于汽車(chē)后視鏡檔次要求的不斷提高，這些企業(yè)紛紛從原來(lái)的鍍鋁工藝轉成真空濺射鍍鉻工藝。

伴隨著(zhù)電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高技術(shù)材料逐漸向薄膜轉移，鍍膜期間隨之發(fā)展迅速，靶材是一種具有高附加值的特種電子材料，是濺射薄膜材料的源較。陶瓷靶材作為非金屬薄膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎材料，已得到從未有過(guò)的發(fā)展，靶材市場(chǎng)規模日益膨脹。國內的陶瓷平面靶材主要采用燒結及綁定工藝，可生產(chǎn)非常大長(cháng)度600mm，非常大寬度400mmm，非常大厚度30mm，圓角、斜邊、臺階等異形根據客戶(hù)要求加工。

陶瓷靶材的特性要求：
（1）純度：陶瓷靶材的純度對濺射薄膜的性能影響很大，純度越高，濺射薄膜的均勻性和批量產(chǎn)品的質(zhì)量的一致性越好。幾年來(lái)，隨著(zhù)微電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，對成膜面積的薄膜均勻性要求十分嚴格，其純度必須大于4N。平面顯示用的ITO靶材In2O3和Sn2O3的純度都大于4N。
（2）密度：為了減少陶瓷靶材的氣孔，提高薄膜性能，要求濺射陶瓷靶材具有高密度。靶材越密實(shí)，濺射顆粒的密度月底，放電現場(chǎng)就越弱，薄膜的性能也越好。
（3）成分與結構均勻性：為保證濺射薄膜均勻，尤特在復雜的大面積鍍膜應用中，必須做到靶材成分與結構均勻性好。

相信在不久的將來(lái)，國內會(huì )有更多的靶材供應商，向國外中高等靶材市場(chǎng)發(fā)起一波強而有力的沖擊。