【中玻網(wǎng)】1、引言

　　目前，低輻射鍍膜玻璃的生產(chǎn)方法主要有兩種。一種是在線(xiàn)鍍膜，一般指在浮法玻璃生產(chǎn)過(guò)程中，在溫度較高的玻璃表面按一定配比噴涂某些化學(xué)試劑，使玻璃表面形成具有一定低輻射功能的化合物薄膜，具有較好的的物理化學(xué)性能，因此較為適合在民用市場(chǎng)推廣。另一種是離線(xiàn)鍍膜，一般指將輻射率較低的銀或其他金屬化合物按一定比例通過(guò)真空磁控濺射的方式將其鍍在玻璃表面。在線(xiàn)鍍膜玻璃受其工藝影響，光學(xué)及熱學(xué)性能相對于離線(xiàn)低輻射鍍膜玻璃要差很多，且顏色及遮陽(yáng)性能較難控制，顏色單一，所以不如離線(xiàn)鍍膜使用廣泛。

　　2、背景

　　離線(xiàn)鍍膜工藝生產(chǎn)的低輻射玻璃主要有兩種加工方式：一種是先鋼化后鍍膜，另一種使先鍍膜后鋼化的可鋼化低輻射產(chǎn)品。在傳統的低輻射玻璃加工過(guò)程中，為了能實(shí)現較好的U值和選擇系數LSG(光熱比)，就必須增加膜層中的銀層厚度來(lái)降低玻璃膜層的輻射率，以得到理想的選擇系數。由于銀易被空氣中的二氧化硫氧化，所以必須鍍膜后立即合成中空玻璃使用。

　　增加銀層厚度就意味著(zhù)可見(jiàn)光透過(guò)率降低、外觀(guān)顏色呈現干擾色，影響玻璃的使用。而市場(chǎng)上所推廣的可鋼化低輻射鍍膜產(chǎn)品，因采用先鍍膜后鋼化的加工方式，在后續加工過(guò)程中會(huì )導致：在鋼化熱處理過(guò)程中，玻璃結構中的堿金屬離子活性增強，部分離子會(huì )滲透到膜層中，破壞電介質(zhì)層及銀層。在鋼化熱處理過(guò)程中，高溫空氣中的氧氣很容易滲透到膜層中，使膜層部分氧化甚至全部氧化。在生產(chǎn)包裝及日后加工運輸過(guò)程中，為防止銀層的氧化采用防潮、隔絕空氣包裝，加大了生產(chǎn)及運輸成本。

　　3、加工方法

　　本文主要針對上述技術(shù)缺點(diǎn)，鋼化后可實(shí)現不含銀層的低輻射玻璃有著(zhù)較低的輻射率及遮陽(yáng)系數�？蓡纹�、夾層或合成中空使用，在中空使用時(shí)不用邊部除膜，節約了生產(chǎn)成本，提高了生產(chǎn)效率。

　　基于此，本文使用摻雜氧化鋅鋁替代銀層，提供一種性能穩定的無(wú)銀低輻射玻璃產(chǎn)品，該產(chǎn)品具有以下優(yōu)點(diǎn)：可見(jiàn)光透過(guò)率較高，透過(guò)率T>65％，輻射率由鋼化前的0.3變?yōu)殇摶蟮?.12，具有良好的節能效果；產(chǎn)品性能穩定，適于大規模生產(chǎn)，克服了含銀產(chǎn)品在鍍膜后進(jìn)行熱處理工序的加工難度，光學(xué)及熱學(xué)性能穩定，鋼化前后顏色變化很小，而且具有優(yōu)良的機械性能；該玻璃具有良好的外觀(guān)顏色，膜層不易脫落、不氧化等特點(diǎn)�？蓡纹�、夾層或合成中空使用，在中空使用時(shí)不用邊部除膜，節約了生產(chǎn)成本，提高了生產(chǎn)效率。包裝及運輸成本低，適合遠距離運輸。為實(shí)現上述目的，本工藝采用了下列技術(shù)方案。

　　一種不含銀低輻射玻璃，膜層結構依次為：玻璃基片￥底層電介質(zhì)組合層￥摻鎢氧化鋅鋁層￥阻擋層￥頂層電介質(zhì)組合層。

　　其中，底層電介質(zhì)組合層、頂層電介質(zhì)組合層所采用的材料一般為金屬氧化物或氮化物，如：TiO2、ZnSnOX、SnO2、ZnO、SiO2、Ta2O5、BiO2、Al2O3、ZnAl2O4、Nb2O5和Si3N4中的一種或幾種構成；阻擋層由Ni、Cr、Ti、NiCr、NiCrOX和NiCrNX中的一種或幾種構成。

　　不含銀低輻射玻璃的制造方法，包括依次沉積各膜層的步驟，為清洗玻璃基片，干燥后置于磁控濺射區；中頻電源加旋轉陰較濺射沉積基層電介質(zhì)組合層；中頻電源加旋轉陰較濺射沉積摻鎢氧化鋅鋁層；直流電源加脈沖濺射沉積阻擋層；中頻電源加旋轉陰較濺射沉積頂層電介質(zhì)組合層。