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碳化硅薄膜在低輻射鍍膜玻璃中的應用

來(lái)源:玻璃工業(yè)網(wǎng) 2018/6/8 14:32:47

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中玻網(wǎng)1、現狀

  近年來(lái),在可鋼化low-e玻璃(大板膜玻)在我國得到一定的推廣,但是整體質(zhì)量并不夠高,因為現有的low-e玻璃抗機械劃傷性能不夠高,抗高溫氧化能力還不夠強,高性能產(chǎn)品成本很高,因此解決上述問(wèn)題已經(jīng)迫在眉睫。

  在大面積鍍膜領(lǐng)域,SiNx介質(zhì)層膜的應用越來(lái)越廣泛。SiNx具有較好的抗腐蝕、抗機械劃傷的、抗高溫氧化能力。因此SiNx作為外層保護層來(lái)使用,目前出現的可鋼化low-e玻璃的外層也是用的SiNx材料?射摶痩ow-e玻璃投入市場(chǎng)使得low-e玻璃的應用得到了很大范圍的推廣。但是low-e玻璃在民用建筑領(lǐng)域使用的還是不夠廣泛,其重要的問(wèn)題就是成本較高。降低low-e玻璃的成本將成為普及l(fā)ow-e玻璃的重要議題,也將成為各大玻璃加工企業(yè)熱門(mén)的話(huà)題。Low-e玻璃成本的主要是由于生產(chǎn)成本太高,解決生產(chǎn)成本的有效的途徑是提高生產(chǎn)效率。在目前大多數企業(yè)是提高玻璃在鍍膜機中的走速、提高濺射靶材的功率來(lái)提效率高率降低成本的。在保證low-e玻璃膜層厚度的時(shí)候,玻璃的走速越快與之對應的濺射靶材功率將越高。在low-e玻璃膜層中介質(zhì)層SiNx的厚度很厚。隨著(zhù)硅鋁靶的功率提高,掉渣問(wèn)題會(huì )越來(lái)越嚴重。其根本原因受到硅鋁靶濺射速率的限制。

  2、碳化硅材料的介紹

  碳化硅(SiC)是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑為原料通過(guò)電阻爐高溫冶煉而成。碳化硅在大自然也存在罕見(jiàn)的礦物,莫桑石。碳化硅又稱(chēng)碳硅石。在當代C、N、B等非氧化物高技術(shù)耐火原料中,碳化硅為應用廣泛、經(jīng)濟的一種?梢苑Q(chēng)為金鋼砂或耐火砂。碳化硅是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑(生產(chǎn)綠色碳化硅時(shí)需要加食鹽)等原料在電阻爐內經(jīng)高溫冶煉而成。碳化硅晶體結構分為六方或菱面體的α-SiC和立方體的β-SiC(稱(chēng)立方碳化硅)。α-SiC由于其晶體結構中碳和硅原子的堆垛序列不同而構成許多不同變體,已發(fā)現70余種。β-SiC于2100℃以上時(shí)轉變?yōu)棣?SiC。碳化硅的硬度很大,莫氏硬度為9.5級,僅次于世界上硬的金剛石(10級),具有優(yōu)良的導熱性能,是一種半導體,高溫時(shí)能舒緩反應。


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