銦靶材,銦管靶,旋轉銦靶,金

? ? ? 真空鍍膜機的發(fā)展相當迅速，隨著(zhù)生產(chǎn)率的提高，生產(chǎn)費用大大降低，已經(jīng)為真空鍍膜產(chǎn)品的普遍使用鋪平了道路。以卷繞式真空鍍膜機為例，剛開(kāi)發(fā)時(shí)可鍍的薄膜基材寬度是150mm，目前已達2253mm�；�材卷筒的卷徑是1000mm，卷繞速度750m/min。自動(dòng)裝卸的半連續卷繞式真空鍍膜機鍍膜占整個(gè)周期的75%，操作只占25%。隨著(zhù)計測技術(shù)、控制技術(shù)的進(jìn)步和電子計算機的應用，卷繞式真空鍍膜機正向著(zhù)高

2024-08-19 面議/套

旋轉鈮靶材,金屬鈮靶材,高純

旋轉鈮靶/旋轉鋅鋁靶/旋轉氧化鈮靶 純度:≥99.95% 應用:主要用于LOW- E鍍膜玻璃,薄膜太陽(yáng)能電池電極膜系, TFT-LCD ,半導體電子加工尺寸:長(cháng)度: 4000MM厚度: 6-10MM ,直型、狗骨型,按客戶(hù)要求定做鈮靶材與其源材料具有相同的特性。鈮是一種銀灰色的、稀有的、質(zhì)地較軟且具有延展性的過(guò)渡金屬，它的熔點(diǎn)為2468*C ,密度為8.57g/cm3 ,蒸氣壓為0.0755帕(2

2024-08-17 面議/套

東莞旋轉靶材,噴涂靶材,旋轉

鋁銅合金靶材(Al-Cu),鋁鉻合金靶材(Al-Cr),鋁鎂合金靶材(Al-Mg),鋁硅合金靶材(Al-Si),鋁銀合金靶材(Al-Ag) ,銅鎵合金靶材(Cu-Ga),銅銦合金靶材 (CuIn),銅鎳合金靶材 (Cu-Ni),銥錳合金(Ir-Mn),鎳鉻合金靶材 (Ni-Cr),鎳鈮鈦合金靶材 (NiNbTi) ,鎳鈦合金靶材 (Ni-Ti),鎳釩合金靶材 (Ni-V)旋轉靶材。鍍膜靶材是通過(guò)磁

2024-08-17 面議/套

鈮靶材,Nb靶材,鈮管靶,金屬

日本日礦和三井為主，其兩家幾乎占據了高等TFT-LCD市場(chǎng)用ITO靶材的全部份額和大部分的觸摸屏面板市場(chǎng)。當前國內平板顯示和光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅速,ITO靶材制造技術(shù)不斷取得打破,未來(lái)我國將可能會(huì )成為銦純****國,應大力發(fā)展國內更新銦產(chǎn)業(yè),建立健全銦儲備機制,并加強與重要資源國的產(chǎn)能合作,保障國內新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展的資源需求。生產(chǎn)氧化銦的材料是金屬銦，銦作為稀散金屬在地殼中含量極低,但資源儲量和產(chǎn)量分布極為

2024-08-17 面議/套

噴涂靶材,半導體靶材,真空鍍

半導體材料主要分為晶圓制造材料和封裝材料，制造材料包括硅片（37%）、光刻膠、光刻膠配套試劑、濕電子化學(xué)品、電子氣體、CMP拋光材料、以及靶材等；（39%）、引線(xiàn)框架、樹(shù)脂、鍵合絲、錫球、以及電鍍液等。在國內占據了大部分中等和要求不高的靶材市場(chǎng)份額。國內靶材公司的發(fā)展趨勢如何？目前全球端高靶材市場(chǎng)主要分布于韓國、灣臺、中國、日本，主要供應商在日本，韓國。 中國市場(chǎng)目前年消耗ITO靶材約300噸，但

2024-08-17 面議/套

銅鎳合金靶材,鎳銅合金靶材,

冷噴涂技術(shù)制備的涂層具有氧化物含量低、涂層熱應力小、硬度高、結合強度好，可將噴涂材料的組織結構在不發(fā)生變化的條件下轉移到基體表面等優(yōu)點(diǎn)，對于涂層的制備技術(shù)具有重要價(jià)值，同時(shí)在制備復雜結構材料的復合技術(shù)方面也發(fā)揮很大的作用。冷噴涂可以實(shí)現低溫狀態(tài)下的金屬沉積，可以制備厚涂層, 涂層厚度可達到毫米級。 真空鍍膜機增透膜增加透射光強度的實(shí)質(zhì)是作為電磁波的光波在傳播的過(guò)程中，在不同介質(zhì)的分界面上，由于邊界

2024-08-17 面議/條

異質(zhì)結靶材,HJT靶材,異質(zhì)結

高純靶材主要用于對材料純度、穩定性要求更高的領(lǐng)域，像集成電路、平板顯示器、太陽(yáng)能電池、記錄媒體、智能玻璃等行業(yè)。在濺射靶材應用領(lǐng)域中，半導體芯片對濺射靶材的要求是比較高的，要求靶材純度很高，一般在5N（99.999%）以上。半導體產(chǎn)業(yè)對濺射靶材和濺射薄膜的品質(zhì)要求非常高，隨著(zhù)更大尺寸的硅晶圓片制造出來(lái)，相應地要求濺射靶材也朝著(zhù)大尺寸、高純度的方向發(fā)展，同時(shí)也對濺射靶材的晶粒晶向控制提出了更高的要求

2024-08-17 面議/套

旋轉鋁靶材,靶材廠(chǎng)家,高純鋁

應用：主要用于表面裝飾及功能鍍膜以及蒸鍍材料，半導體電子, TFT, 平面顯示 產(chǎn)品化學(xué)成分和物理性能： 化學(xué)式：Al 成型工藝：噴涂 密度:? >2.6g/cm3 純度:? > 99.9% 較大雜質(zhì)含量 （單位:? ppm， 總雜質(zhì)含量≤ 1000ppm) 長(cháng)度L 4000MM ???厚度T6-13MM 直型、狗骨型 按客戶(hù)要求定做 包裝方式：真空密封包裝，使用標準出口木箱。 ? ? ? 冷噴涂

2024-08-17 面議/千克

氧化鈦靶材,噴涂氧化鈦靶材,

旋轉氧化鈦靶 Rotatable TiOx target應用：用于制作TiO2膜，主要用于光學(xué)玻璃AR膜系，Low-E玻璃膜系 熱噴涂技術(shù)是一種利用熱源將材料加熱至熔化或半熔化狀態(tài)，并以一定的速度噴射沉積到預處理表面形成涂層的方法。熱噴涂技術(shù)的沉積效率較高，因此可以快速，低成本地實(shí)現大面積功能層的制備。此外，熱噴涂技術(shù)操作簡(jiǎn)單，成本低廉，因此有望實(shí)現固體氧化物燃料電池從電解質(zhì)、連接體，到多孔電極和

2024-08-17 面議/條